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  • [M]衍射极限附近的光刻工艺(第2版)-9787302676119
  • 本书获得了众多专家的推荐或权威评价,许多业内人士和读者纷纷表示它是一部不可错过的佳作。
    • 作者: 伍强、胡华勇、何伟明、岳力挽、张强、杨东旭、黄怡、李艳丽著
    • 出版社: 清华大学出版社
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    • 作者: 伍强、胡华勇、何伟明、岳力挽、张强、杨东旭、黄怡、李艳丽著
    • 出版社:清华大学出版社
    • ISBN:9787302676119
    • 出版周期:旬刊
    • 版权提供:清华大学出版社

    为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面,破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境,作为从事光刻工艺研发近 20 年的资深研发人员,作者肩负着协助光刻设备、材料和软件等产业链共同研发和发展的责任,将为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面,摆脱光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境,作为从事光刻工艺研发近20年的资深研发人员,作者肩负着协助光刻设备、材料和软件等产业链共同研发和发展的责任,将近20年的学习成果和研发经验汇编成书,建立联系我国集成电路芯片的研发和制造,设备、材料和软件的研发,以及大专院校、科研院所的科学技术研究、人才培养的一座桥梁。

    本书以光刻工艺为主线,将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建 模思想和推导、芯片制造的技术发展要求以及对光刻工艺各项参数的要求紧密、有机地联系在一起,给读者一个整体的图景。本书可供光刻技术领域科研院所的研究人员、大专院校的教师和学生、集成电路工厂的工程技术人员等参考。

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