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  • [M]集成电路制造工艺与模拟-9787122465375
  • 本书获得了众多专家的推荐或权威评价,许多业内人士和读者纷纷表示它是一部不可错过的佳作。
    • 作者: 孙晓东著
    • 出版社: 化学工业出版社
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    • 作者: 孙晓东著
    • 出版社:化学工业出版社
    • ISBN:9787122465375
    • 版权提供:化学工业出版社
    本书内容涵盖集成电路制造工艺及模拟仿真知识。详细介绍了集成电路的发展史及产业发展趋势、集成电路制造工艺流程及模拟仿真基础、集成电路制造的材料及相关环境、晶圆的制备与加工;具体讲解了氧化、淀积、金属化、光刻、刻蚀、离子注入、平坦化等关键工艺步骤的理论,对氧化、光刻、离子注入等步骤进行工艺模拟仿真,对关键的光刻工艺进行虚拟操作模拟;以NMOS器件为例,介绍了基本CMOS工艺流程及其模拟过程。
    本书理论和实践相结合,不仅讲解了集成电路制造工艺及其理论知识,还通过工艺模拟软件及虚拟操作模拟,使读者亲身感受关键的工艺步骤。
    本书可作为集成电路设计与集成系统、微电子科学与工程等专业的教材,也可供半导体行业从事芯片制造与加工的工程技术人员学习参考。

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