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  • [M]等离子体刻蚀工艺及设备-9787121450181
  • 本书获得了众多专家的推荐或权威评价,许多业内人士和读者纷纷表示它是一部不可错过的佳作。
    • 作者: 暂无著
    • 出版社: 电子工业出版社
    • 出版时间:2023-02-01 00:00:00
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    • 作者: 暂无著
    • 出版社:电子工业出版社
    • 出版时间:2023-02-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 印刷时间:2023-02-01
    • 字数:241000
    • 页数:180
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787121450181
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:电子工业出版社
    本书以集成电路领域中的等离子体刻蚀为切入点,介绍了等离子体基础知识、基于等离子体的刻蚀技术、等离子体刻蚀设备及其在集成电路中的应用。全书共8章,内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的等离子体刻蚀工艺、集成电路封装中的等离子体刻蚀工艺、等离子体刻蚀机、等离子体测试和表征、等离子体仿真、颗粒控制和量产。本书对从事等离子体刻蚀基础研究和集成电路工厂产品刻蚀工艺调试的人员均有一定的参考价值。本书适合相关领域的大专院校、研究所以及科技型公司的师生、科研人员和工程师等专业人品,以及对集成电路产业成兴趣的社会各界人士阅读参考。

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