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  • [M]光学光刻和极紫外光刻-9787547857205
  • 本书获得了众多专家的推荐或权威评价,许多业内人士和读者纷纷表示它是一部不可错过的佳作。
    • 作者: (德)安迪·爱德曼著 | | 高伟民,徐东波,诸波尔译
    • 出版社: 上海科学技术出版社
    • 出版时间:2023-01-01 00:00:00
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    • 作者: (德)安迪·爱德曼著| 高伟民,徐东波,诸波尔译
    • 出版社:上海科学技术出版社
    • 出版时间:2023-01-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 印刷时间:2023-01-01
    • 字数:400000
    • 页数:340
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787547857205
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:上海科学技术出版社

    本书在介绍光刻技术应用上,作者涵盖了全面又丰富的内容,在论述光刻技术的物理机制和数学模型时,本书采用了完整但不繁琐的方法,增加了该书的可读性。在论述光刻技术的共性内容后,该书专门开辟章节,较为详细地介绍了xianjin的极紫外光刻技术的特点和难点,从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。该书内容全面、完整、详实、新颖,集这四个特点于一书,目前尚没有一本关于光刻技术方面的书可以与之媲美。该书凝聚了作者30多年光刻领域科研和教学之精华,对于从事芯片领域的专业技术人员,这是一本手册性的内容丰富的参考书。

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