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[M]光学光刻和极紫外光刻-9787547857205
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本书在介绍光刻技术应用上,作者涵盖了全面又丰富的内容,在论述光刻技术的物理机制和数学模型时,本书采用了完整但不繁琐的方法,增加了该书的可读性。在论述光刻技术的共性内容后,该书专门开辟章节,较为详细地介绍了xianjin的极紫外光刻技术的特点和难点,从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。该书内容全面、完整、详实、新颖,集这四个特点于一书,目前尚没有一本关于光刻技术方面的书可以与之媲美。该书凝聚了作者30多年光刻领域科研和教学之精华,对于从事芯片领域的专业技术人员,这是一本手册性的内容丰富的参考书。
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