| 产品展示 |
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| 基本信息 |
图书名称： | 大型高功率激光装置设计与研制 |
作 者： | 朱健强 编 |
定价： | 428.00 |
ISBN号： | 9787547851128 |
出版社： | 上海科学技术出版社 |
开本： | 16开 |
装帧： | 精装 |
出版日期： | 2020-12-01 |
| 编辑推荐 |
| 适读人群 ：本书可供高功率激光相关专业学生教学研究使用，也可供有志于利用高功率激光开展科学研究的科研人员参考。 有关激光惯性约束核聚变技术的研究开发，由王淦昌和王大珩两位先生所倡导，得到党和国家的大力关怀支持。我国在这一具有世界重大意义的科研领域已经走在了世界的前列。这本书是高功率激光物理联合实验室几代人在神光系列装置上“传承辟新”的缩影，充分展示了神光Ⅱ系列装置的技术内涵，也显示了中国科技的世界先进性。作者朱健强是该联合实验室主任，学术成果丰富，是世界重量级的科学家。 |
| 内容介绍 |
| 惯性约束核聚变（ICF）是一种核聚变技术，该技术利用激光的冲击波来引发核聚变反应。大型高功率激光装置是开展这方面研究的核心实验平台，是国际强国积极部署的重要发展方向之一。中国科学院和中国工程物理研究院高功率激光物理联合实验室在我国率先开展了大型高功率激光装置的总体设计与系统集成，30余年来先后成功研制了系列“神光”激光装置，引领我国在该领域的发展，在国际上享有重要影响力与学术地位。本书针对高功率激光装置的物理需求和功能目标，从总体设计、关键技术及核心元器件等方面，按分系统功能作技术分解和介绍，并结合神光系列装置的工程研制过程，总结分析关键技术、演化历程，并在此基础上专门介绍神光Ⅱ高功率激光系统在超短脉冲激光、皮秒拍瓦激光、飞秒拍瓦激光以及溶胶-凝胶化学膜化学膜制备方面的研发与探索，展示我国大型高功率激光装置开发的前沿目标，会对我国高功率激光装置的工程研制和技术及其更大规模和更高性能的发展起到促进作用。读者可通过本书对“神光”高功率激光装置这一大科学工程有全面、系统的认识。 |
| 作者介绍 |
| 朱健强 中国科学院上海光学精密机械研究所联合实验室主任、研究员。长期致力于大型高功率激光装置的总体设计和研究发展，先后承担国家J课题20余项。曾获国家科技进步奖二等奖2项、首届中国科学院杰出成就奖、首届全国创新争优奖等奖项。发表论文300余篇，授权发明专利百余项，其中美国和日本发明专利5项。2013年创办的高功率激光领域第一本英文学术期刊High Power Laser Science and Engineering，于2017年被SCIE收入，任该刊主编，并打造以该刊冠名的系列国际学术会议。 |
| 目录 |
| 《科学专著》系列丛书序 序 前言 第一篇神光Ⅱ高功率激光系统 第1章神光Ⅱ高功率激光综合平台目的和用途3 §1．1引言3 §1．2国内外高功率激光发展现状7 §1．3神光Ⅱ平台建造的目的和用途8 §1．4神光Ⅱ高功率激光平台建造年鉴9 参考文献11 第2章神光Ⅱ平台组成及功能介绍13 §2．1神光Ⅱ平台组成的功能13 §2．2神光Ⅱ平台组成的指标13 §2．3神光Ⅱ平台的协调运行模式18 参考文献19 第3章神光Ⅱ平台的物理成果20 §3．1ICF实验研究20 §3．2等离子体物理27 §3．3实验室天体物理29 §3．4高功率激光技术进展39 §3．5中韩合作49 §3．6NLF项目49 参考文献50 第二篇神光Ⅱ单元技术 第4章神光Ⅱ多功能注入分系统55 §4．1注入分系统的功能和总述55 §4．2国外前端预放系统进展56 4．2．1国外前端系统进展56 4．2．2国外预放系统进展58 §4．3神光Ⅱ装置前端预放系统的发展历程62 4．3．1第一代前端预放系统62 4．3．2第二代前端预放系统63 4．3．3神光Ⅱ装置前端预放系统63 §4．4神光Ⅱ装置前端系统功能和技术指标65 4．4．1神光Ⅱ装置前端系统功能概述65 4．4．2神光Ⅱ装置前端系统主要技术指标66 4．4．3神光Ⅱ装置前端系统工作模式66 §4．5神光Ⅱ装置前端系统总体技术方案和核心技术问题67 4．5．1神光Ⅱ装置前端系统总体技术方案67 4．5．2前端系统核心技术问题71 §4．6神光Ⅱ装置前端系统关键技术76 4．6．1神光Ⅱ装置前端纳秒脉冲整形组件76 4．6．2短脉冲选单与长短脉冲同步控制组件90 4．6．3钕玻璃再生放大器93 4．6．4神光Ⅱ装置注入系统信噪比分析96 4．6．5空间强度分布控制组件104 4．6．6OPCPA泵浦组件110 §4．7总结115 参考文献115 第5章神光Ⅱ高功率激光放大系统119 §5．1放大系统的功能和总述119 §5．2放大系统的组成与设计122 5．2．1棒状放大器设计122 5．2．2片状放大器设计127 5．2．3空间滤波器及像传递138 5．2．4冷却系统设计144 5．2．5能源系统设计156 §5．3关键技术166 5．3．1大口径光束隔离技术166 5．3．2光束控制——焦斑匀滑技术174 5．3．3全系统仿真181 §5．4总结与展望202 参考文献203 第6章神光Ⅱ高功率激光靶场技术207 §6．1靶场系统概述207 §6．2靶场系统的功能与组成209 6．2．1靶场系统功能209 6．2．2靶场系统组成210 §6．3靶场系统的单元组件212 6．3．1光束导引组件212 6．3．2反射镜架及其支撑结构218 6．3．3终端光学组件220 6．3．4真空靶室组件231 6．3．5靶定位瞄准组件234 §6．4关键技术241 6．4．1杂散光控制技术241 6．4．2高效谐波转换技术242 6．4．3多束束靶耦合技术244 6．4．4高通量终端光学组件技术247 6．4．5酸洗匀滑去除亚表面缺陷技术250 §6．5总结与展望260 参考文献261 第7章激光参数测量与光束控制263 §7．1概述263 §7．2激光参数测量266 7．2．1常用激光参数与测量方法266 7．2．2功能与组成279 7．2．3发展历程280 7．2．4国内外发展现状283 7．2．5驱动器升级装置激光参数测量288 7．2．6关键技术330 7．2．7总结与展望333 §7．3光束自动准直338 7．3．1基本原理338 7．3．2组成单元339 7．3．3国内外研究进展343 7．3．4神光发展历程353 7．3．5主要关键技术358 7．3．6总结与展望362 §7．4自适应光学波前364 7．4．1综述364 7．4．2自适应光学在激光驱动器上的发展364 7．4．3组成单元367 7．4．4波前系统设计377 7．4．5总结与展望400 §7．5集总控制400 7．5．1基本概念401 7．5．2国内外研究发展现状401 7．5．3功能与组成405 7．5．4集总控制系统现状408 7．5．5关键技术414 7．5．6总结与展望415 参考文献416 第8章神光系统工程工艺支撑技术422 §8.1概述422 §8.2装置总体结构设计关键技术423 8.2.1稳定性424 8.2.2洁净控制426 8.2.3波面控制441 8.2.4集成分析446 §8.3装置关键单元设计463 8.3.1预放系统设计463 8.3.2主放系统设计468 8.3.3靶场系统设计480 8.3.4拍瓦系统设计482 8.3.5参数测控系统设计490 §8.4通用系统设计494 §8.5安装集成技术496 8.5.1基准体系建立496 8.5.2单元组件的定位安装与测量499 8.5.3小结502 §8.6光学元件精密加工工艺502 8.6.1平面光学元件加工工艺503 8.6.2非球面光学元件加工工艺504 8.6.3大尺寸KDP晶体加工工艺507 §8.7协同设计与工程管理511 参考文献515 第三篇高功率激光技术 第9章超短脉冲激光原理与技术519 §9.1引言519 §9.2超短脉冲激光基本原理524 9.2.1超短脉冲激光在介质中的传输524 9.2.2光栅对与压缩器526 9.2.3展宽器原理与设计528 9.2.4介质色散分析与波形计算536 9.2.5光参量啁啾脉冲放大理论541 §9.3高功率超短脉冲激光关键技术554 9.3.1大口径光栅554 9.3.2大口径非线性晶体554 9.3.3基于DKDP晶体的OPCPA示例557 9.3.4信噪比提升技术559 §9.4总结与展望567 参考文献567 第10章神光Ⅱ皮秒拍瓦激光570 §10.1概述570 §10.2神光Ⅱ皮秒拍瓦激光的总体与功能572 10.2.1设计参数572 10.2.2系统设计边界576 §10.3神光Ⅱ皮秒拍瓦激光单元设计580 10.3.1展宽器设计580 10.3.2放大器系统584 10.3.3脉冲压缩系统587 10.3.4自适应光学系统591 10.3.5激光聚焦系统595 10.3.6皮秒参数测量系统600 §10.4关键技术618 10.4.1OPCPA技术618 10.4.2宽带光谱整形技术622 10.4.3光栅拼接技术625 §10.5总结与展望630 参考文献631第11章神光Ⅱ飞秒拍瓦激光633 §11.1引言633 §11.2神光Ⅱ飞秒拍瓦激光的总体与功能634 11.2.1总体设计634 11.2.2性能与参数636 §11.3飞秒拍瓦激光单元设计647 11.3.1前端设计647 11.3.2放大器系统设计654 11.3.3压缩器设计666 11.3.4靶室和聚焦单元设计668 11.3.5激光参数测量单元设计669 11.3.6相关单元设计677 §11.4关键技术688 11.4.1皮秒域放大技术688 11.4.2色差控制技术691 11.4.3等离子体镜技术694 §11.5总结与展望706 参考文献707 第12章光学元件检测技术710 §12.1概述710 §12.2激光光学元件技术参数与技术标准711 12.2.1激光光学元件技术参数与技术标准711 12.2.2美国NIF 激光驱动器光学元件相关技术指标演变719 12.2.3NIF光学元件供货状况简介724 12.2.4神光Ⅱ升级光学元件的一般技术要求与技术规范724 §12.3光学元件的检验流程727 §12.4激光光学元件常用检测仪器与检测方法728 §12.5干涉仪测量激光光学元件面形与波面误差733 12.5.1激光光学元件对光学元件波面误差的技术要求733 12.5.2干涉仪的基本原理734 12.5.3干涉仪测量光学元件面形与波面误差的方法737 12.5.4案例764 参考文献771 第13章新型光场测量技术及应用774 §13.1高功率激光驱动器光场在线测量概述774 §13.2测量原理782 13.2.1PIE成像技术782 13.2.2相干调制成像技术787 13.2.3编码分束成像技术789 13.2.4核心理论体系795 §13.3新型光场测量技术的应用801 13.3.1核心测量设备801 13.3.2高功率激光光束在线诊断803 13.3.3波前动静态测量809 13.3.4光学元件检测812 §13.4总结与展望815 参考文献815 第14章溶胶凝胶化学膜818 §14.1概述818 14.1.1溶胶凝胶技术原理818 14.1.2溶胶凝胶技术特点821 14.1.3溶胶凝胶技术的应用822 14.1.4溶胶凝胶技术制备薄膜822 14.1.5溶胶凝胶技术制备薄膜特点823 14.1.6溶胶凝胶薄膜制备方法824 14.1.7溶胶凝胶法制备薄膜的应用827 14.1.8溶胶凝胶法在高功率激光器中的应用829 §14.2光学玻璃元件多孔SiO2减反膜833 14.2.1涂膜悬胶体833 14.2.2多孔SiO2减反膜光学性质834 14.2.3多孔SiO2减反膜稳定性835 §14.3激光倍频器磷酸二氢钾（KDP）晶体防潮膜减反膜837 14.3.1涂膜工艺控制838 14.3.2膜层性能838 14.3.3方形基片旋涂法涂SiO2疏水减反膜840 §14.4掺钕磷酸盐激光玻璃聚二甲基二乙氧基硅烷（DMDEOS）防潮膜844 §14.5主放大器隔板玻璃宽带减反膜硬膜846 14.5.1TiO2／SiO2宽带减反膜846 14.5.2隔板玻璃超宽带减反膜848 §14.6溶胶凝胶法制备ZrO2／SiO2双层减反膜852 14.6.1以有机锆醇盐为前驱体制备ZrO2薄膜852 14.6.2ZrO2PVP膜层激光损伤性能研究858 14.6.3ZrO2／SiO2双层减反膜859 §14.7总结与展望862 参考文献863 索引869 后记877 |
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