- 商品参数
-
- 作者:
[日] 野尻一男著
- 出版社:机械工业出版社
- 出版时间:2024-01-01 00:00:00
- 版次:1
- 印次:1
- 印刷时间:2023-12-01
- 字数:132
- 页数:162
- 开本:16开
- 装帧:平装
- ISBN:9787111742029
- 国别/地区:中国
- 版权提供:机械工业出版社
本书是一本全面系统的干法刻蚀技术论著。针对干法刻蚀技术,在内容上涵盖了从基础知识到近期新技术,使初学者能够了解干法刻蚀的机理,而无需复杂的数值公式或方程。本书不仅介绍了半导体器件中所涉及材料的刻蚀工艺,而且对每种材料的关键刻蚀参数、对应的等离子体源和刻蚀气体化学物质进行了详细解释。本书讨论了具体器件制造流程中涉及的干法刻蚀技术,介绍了半导体厂商实际使用的刻蚀设备的类型和等离子体产生机理,例如电容耦合型等离子体、磁控反应离子刻蚀、电子回旋共振等离子体和电感耦合型等离子体,并介绍了原子层沉积等新型刻蚀技术。