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  • 磁场下复合电沉积法制备铁-硅镀层
  • 本书获得了众多专家的推荐或权威评价,许多业内人士和读者纷纷表示它是一部不可错过的佳作。
    • 作者: 龙琼著
    • 出版社: 中国矿业大学出版社
    • 出版时间:2021-01-01 00:00:00
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    • 作者: 龙琼著
    • 出版社:中国矿业大学出版社
    • 出版时间:2021-01-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787564648060
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:中国矿业大学出版社
    本书共分为6章,主要内容包含:绪论,Fe-Si复合镀层制备研究方案,无磁场下Fe-Si镀层的制备,水平磁场下制备Fe-Si复合镀层,竖直强磁场下制备Fe-Si复合镀层,以及磁场下电化学研究电沉积铁过程等。本书所述内容具有前瞻性和实用性。本书可供从事高硅钢薄带制备、电磁冶金、表面改性、新材料制备等研究方向的人员使用,亦可供相关企业技术人员参考使用。

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