[正版]高教P3透射电子显微学下册 第二2版 材料科学经典著作选译系列David B. Williams, C.

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透射电子显微学（下册）

作者： David B. Williams, C. Barry Carter 著；李建奇 等 译

定价： 129.00元

ISBN： 978-7-04-052413-0

版面字数： 860.000千字

开本： 16开

全书页数： 暂无

装帧形式： 精装

重点项目： 暂无

出版时间： 1900-01-01

读者对象： 学术著作

一级分类： 自然科学

二级分类： 材料

三级分类： 通用

本书对透射电子显微镜的构造、实验技术的原理和应用进行了详细介绍。第二版已对第一版内容进行了修订和更新。解释了为什么需要用到这一特殊的技术以及如何将这一特定概念运用到实践中。全书分为上下两册，共4篇，总计40章。第一篇主要介绍一些与透射电子显微镜相关的基本概念，包括电子衍射的基础知识、仪器的构造与功能，以及透射电子显微镜样品的制备等。第二篇主要介绍电子衍射的基本原理、不同的电子衍射实验技术，以及对电子衍射的理论描述。第三篇主要介绍成像的基本原理和各种成像类型、不同的成像技术，以及对实验图像的处理、分析和理论模拟。第四篇主要介绍X射线能谱和电子能量损失谱的基本原理和应用，以及与之相关的各种实验技术。全书有近700张图表，在英文版中全为彩图，而在中译本中大部分为黑白图，但并不影响所表达的意思。中译本将全书分成上下两册，即将英文版的第一篇和第二篇作为上册，将第三篇和第四篇作为下册。 本书可作为高等院校高年级本科生和研究生的教材，也可作为从事电子显微学分析等相关领域研究人员的参考用书。

前辅文

第三篇 成像原理

第22章 振幅衬度

章节预览

22.1 什么是衬度？

22.2 振幅衬度

22.2.1 图像和衍射花样

22.2.2 物镜光阑和STEM探头的使用：明场像和暗场像

22.3 质-厚衬度

22.3.1 质-厚衬度的原理

22.3.2 TEM图像

22.3.3 STEM 图像

22.3.4 质-厚衬度样品

22.3.5 定量质-厚衬度

22.4 Z衬度

22.5 TEM衍射衬度

22.5.1 双束条件

22.5.2 设置偏离参量s

22.5.3 拍摄双束CDF图像

22.5.4 图像和衍射花样的关系

22.6 STEM衍射衬度

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第23章 相位衬度成像

章节预览

23.1 介绍

23.2 晶格条纹像的起源

23.3 晶格条纹像的实践观察

23.3.1 s=0的情况

23.3.2 s≠0的情况

23.4 正带轴晶格条纹像

23.5 莫尔条纹

23.5.1 平移莫尔条纹

23.5.2 旋转莫尔条纹

23.5.3 一般莫尔条纹

23.6 实验观察莫尔条纹

23.6.1 平移莫尔条纹

23.6.2 旋转莫尔条纹

23.6.3 位错和莫尔条纹

23.6.4 复杂莫尔条纹

23.7 菲涅耳衬度

23.7.1 菲涅耳双棱镜

23.7.2 磁畴壁

23.8 孔洞或气泡的菲涅耳衬度

23.9 晶格缺陷的菲涅耳衬度

23.9.1 晶界

23.9.2 露头位错

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第24章 厚度效应和弯曲效应

章节预览

24.1 基本原理

24.2 厚度条纹

24.3 厚度条纹和衍射花样（DP）

24.4 弯曲轮廓（讨厌的瑕疵、有用的工具、珍贵的观点）

24.5 ZAP和实空间晶体学

24.6 凸起、凹陷和鞍状弯曲

24.7 吸收效应

24.8 厚度条纹的计算机模拟

24.9 厚度条纹/弯曲轮廓相互作用

24.10 其他弯曲效应

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第25章 面缺陷

章节预览

25.1 平移和旋转

25.2 为什么平移会产生衬度？

25.3 散射矩阵

25.4 散射矩阵的应用

25.5 fcc材料中的堆垛层错

25.5.1 为什么选择fcc材料作为分析对象？

25.5.2 一些规则

25.5.3 强度计算

25.5.4 重叠层错

25.6 其他平移：π和δ条纹

25.7 相边界

25.8 旋转边界

25.9 衍射花样和色散曲面

25.10 布洛赫波与BF/DF图像对

25.11 计算机建模

25.12 广义截面

25.13 定量成像

25.13.1 理论基础和参数

25.13.2 表观消光距离

25.13.3 避免柱体近似

25.13.4 用户界面

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第26章 应变场成像

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26.1 应变场成像的意义

26.2 Howie Whelan方程

26.3 单根位错线的衬度

26.4 位移场和Ewald球

26.5 位错节点和位错网

26.6 位错环和位错偶极子

26.7 位错对、位错阵列和位错结

26.8 表面效应

26.9 位错和界面

26.10 体缺陷和晶粒

26.11 图像模拟

26.11.1 缺陷形状

26.11.2 晶体缺陷和位移场的计算

26.11.3 相关参数

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第27章 弱束暗场显微术

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27.1 WBDF像中的强度

27.2 利用菊池花样设置sg

27.3 如何操作WBDF

27.4 应力场成像

27.5 弱束像中的厚度条纹

27.6 预测位错峰位置

27.7 相量图

27.8 不全位错的弱束像

27.9 其他思考

27.9.1 认为弱束衍射是耦合摆

27.9.2 布洛赫波

27.9.3 如果存在其他反射

27.9.4 展望

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第28章 高分辨率透射电子显微学

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28.1 光学系统的作用

28.2 无线电类比

28.3 样品

28.4 WPOA在TEM中的应用

28.5 传递函数

28.6 关于χ(u)、sinχ(u)和cosχ(u)的更多讨论

28.7 Scherzer离焦

28.8 包络阻尼函数

28.9 利用传输频带成像

28.10 实验需要考虑的事项

28.11 HRTEM的未来

28.12 TEM作为一个线性系统

28.13 FEG-TEM及其信息极限

28.14 FEG的一些难点

28.15 亚晶格的选择性成像

28.16 界面和表面

28.17 无公度结构

28.18 准晶体

28.19 单原子

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第29章 其他成像技术

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29.1 立体显微术和断层摄影术

29.2 212维显微术

29.3 磁性样品

29.3.1 磁校正

29.3.2 洛伦兹显微术

29.4 化学敏感像

29.5 漫散射电子成像

29.6 表面成像

29.6.1 反射电子显微术

29.6.2 形貌衬度

29.7 高阶明场成像

29.8 二次电子成像

29.9 背散射电子成像

29.10 电荷收集显微术和阴极发光

29.11 电子全息

29.12 原位TEM：动态实验

29.13 涨落电子显微术

29.14 STEM中的其他可能

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第30章 图像模拟

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30.1 模拟图像

30.2 多层法

30.3 倒易空间法

30.4 快速傅里叶变换法

30.5 实空间法

30.6 布洛赫波和高分辨透射电子显微镜（HRTEM）模拟

30.7 Ewald球弯曲

30.8 选择薄片厚度

30.9 电子束会聚

30.10 建立结构模型

30.11 表面凹槽和菲涅耳衬度模拟

30.12 缺陷图像计算

30.13 模拟准晶

30.14 晶体中的键

30.15 Z衬度模拟

30.16 HRTEM相位衬度的模拟软件

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第31章 图像处理和定量分析

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31.1 什么是图像处理

31.2 图像处理和定量

31.3 注意事项

31.4 图像输入

31.5 处理技术

31.5.1 傅里叶滤波和重构

31.5.2 衍射谱分析

31.5.3 图像平均和其他技术

31.5.4 核函数

31.6 应用

31.6.1 电子束敏感材料

31.6.2 周期图像

31.6.3 漂移校准

31.6.4 相位重构

31.6.5 衍射花样

31.6.6 束流倾斜

31.7 自动合轴

31.8 图像定量分析方法

31.9 HRTEM中的花样识别

31.10 图像参数的定量计算

31.10.1 组分均匀样品的例子

31.10.2 标定R的路径

31.10.3 噪声分析

31.11 定量化学晶格成像

31.12 测量拟合度的方法

31.13 模拟和实验HRTEM图像的定量比较

31.14 定量分析的傅里叶技术

31.15 实空间和倒易空间的选择

31.16 软件

31.17 光具座——小历史

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第四篇 能谱分析

第32章 X射线能谱仪

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32.1 X射线分析：为何比较麻烦？

32.2 基本的操作模式

32.3 能量色散谱仪

32.4 半导体探测器

32.4.1 XEDS的工作原理

32.4.2 探测器冷却

32.4.3 不同类型的窗口

32.4.4 本征Ge探测器

32.4.5 Si漂移探测器

32.5 高能量分辨率探测器

32.6 波长色散能谱

32.6.1 晶体WDS

32.6.2 以CCD为载体的WDS

32.6.3 辐射热测定仪/微热量计

32.7 X射线转换为能谱

32.8 能量分辨率

32.9 XEDS的一些基本知识

32.9.1 探测器变量

32.9.2 处理过程参量

32.10 XEDS AEM接口

32.10.1 采集角

32.10.2 出射角

32.10.3 探测器相对样品的方位

32.11 保护探测器不受强辐射的损害

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第33章 X射线谱及成像

章节预览

33.1 理想谱

33.1.1 特征峰

33.1.2 连续轫致辐射背景

33.2 Si(Li)XEDS系统常见假峰

33.3 真实的能谱

33.3.1 前样品效应

33.3.2 样品后的散射

33.3.3 相干轫致辐射

33.4 测量XEDS AEM接口质量

33.4.1 峰背比

33.4.2 XEDS系统效率

33.5 采集X射线谱

33.5.1 点扫描模式

33.5.2 线扫描谱模式

33.6 采集X射线成像

33.6.1 模拟点绘图

33.6.2 数字绘图

33.6.3 能谱成像

33.6.4 位置标记光谱学(PTS)

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第34章 X射线图谱的定性分析

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34.1 实验变量

34.2 基本的能谱获取要求：计数、计数、更多的咖啡

34.3 峰识别

34.4 峰解卷

34.5 峰的可见度

34.6 常见错误

34.7 定性X射线成像：原理和实践

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第35章 X射线定量分析

章节预览

35.1 历史回顾

35.2 Cliff Lorimer比率方法

35.3 定量分析的实际步骤

35.3.1 本底扣除

35.3.2 峰的积分

35.4 k因子的确定

35.4.1 kAB的实验确定

35.4.2 定量分析中的误差：统计学

35.4.3 计算kAB

35.5 ζ因子方法

35.6 吸收修正

35.7 ζ因子吸收修正

35.8 荧光修正

35.9 ALCHEMI

35.10 定量X射线元素映射

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第36章 空间分辨率和检测下限

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36.1 空间分辨率的重要性

36.2 空间分辨率的定义和测量

36.2.1 束扩散

36.2.2 空间分辨率方程

36.2.3 空间分辨率的测量

36.3 厚度的测量

36.3.1 TEM方法

36.3.2 污染点分离法

36.3.3 会聚束衍射法

36.3.4 电子能量损失谱方法

36.3.5 X射线能谱法

36.4 检测下限

36.4.1 影响MMF的实验因素

36.4.2 MMF的统计标准

36.4.3 与其他定义的比较

36.4.4 最小可探测质量

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第37章 电子能量损失谱仪和过滤器

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37.1 为什么要使用电子能量损失谱？

37.1.1 非弹性散射的优点和缺点

37.1.2 能量损失谱

37.2 EELS设备

37.3 磁棱镜：谱仪和透镜

37.3.1 聚焦谱仪

37.3.2 谱仪色散

37.3.3 谱仪的分辨率

37.3.4 校正谱仪

37.4 收集能谱

37.4.1 像和衍射模式

37.4.2 谱仪的收集角

37.4.3 空间选择

37.5 使用PEELS的问题

37.5.1 点-发散函数

37.5.2 PEELS伪像

37.6 成像过滤器

37.6.1 奥米伽过滤器

37.6.2 GIF

37.7 单色器

37.8 使用谱仪和过滤器

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第38章 低能量及零能量损失的能谱和图像

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38.1 一些基本概念

38.2 零损失峰（ZLP）

38.2.1 为什么零损失峰并非实至名归

38.2.2 扣除ZLP的拖尾

38.2.3 零损失成像和衍射花样

38.3 低能损失谱

38.3.1 化学指纹识别

38.3.2 确定介电常数

38.3.3 等离激元

38.3.4 等离激元损失分析

38.3.5 单电子激发

38.3.6 带隙

38.4 模拟低能损失谱

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第39章 高能损失谱和图像

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39.1 高能损失谱

39.1.1 内层电离

39.1.2 电离吸收边特性

39.2 获取高能损失谱

39.3 定性分析

39.4 定量分析

39.4.1 定量分析方程的推导

39.4.2 扣除本底

39.4.3 吸收边积分

39.4.4 部分电离截面

39.5 根据能量损失谱确定样品厚度

39.6 解卷积

39.7 入射电子束会聚的修正

39.8 样品取向的影响

39.9 EFTEM电离吸收边成像

39.9.1 定性能量过滤像

39.9.2 定量能量过滤像

39.10 空间分辨率:原子柱EELS

39.11 探测能量的极限

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

第40章 精细结构和细节信息

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40.1 为什么会有精细结构？

40.2 ELNES物理

40.2.1 原理

40.2.2 白线

40.2.3 量子描述

40.3 ELNES的应用

40.4 ELNES 指纹标识

40.5 ELNES计算

40.5.1 势场选择

40.5.2 内壳层空穴和激子

40.5.3 ELNES 的计算和实验的比较

40.6 能量损失边的化学位移

40.7 扩展能量损失精细结构（EXELFS）

40.7.1 EXELFS得到径向分布函数（RDF）

40.7.2 能量过滤衍射的径向分布函数RDF

40.7.3 最后的实验思考

40.8 角分辨的电子能量损失谱

40.9 EELS 层析技术

章节总结

参考文献

自测题

章节具体问题

索引

 

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