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  • 醉染图书光刻机像质检测技术(下册)9787030673558
  • 正版全新
    • 作者: 王向朝 等著 | 王向朝 等编 | 王向朝 等译 | 王向朝 等绘
    • 出版社: 科学出版社
    • 出版时间:2021-03-01
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    • 作者: 王向朝 等著| 王向朝 等编| 王向朝 等译| 王向朝 等绘
    • 出版社:科学出版社
    • 出版时间:2021-03-01
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 字数:713000
    • 页数:500
    • 开本:16开
    • ISBN:9787030673558
    • 版权提供:科学出版社
    • 作者:王向朝 等
    • 著:王向朝 等
    • 装帧:精装
    • 印次:1
    • 定价:228.00
    • ISBN:9787030673558
    • 出版社:科学出版社
    • 开本:16开
    • 印刷时间:暂无
    • 语种:暂无
    • 出版时间:2021-03-01
    • 页数:500
    • 外部编号:1202339503
    • 版次:1
    • 成品尺寸:暂无

    序言

    前言

    第7章 基于原位PMI的波像差检测

    7.1 Shack-Hartmann检测技术

    7.2 线衍干涉检测技术

    7.3 Ronchi剪切干涉检测技术

    7.3.1 在光刻机中的应用

    7.3.2 干涉场的理论分析

    7.3.3 相位提取技术

    7.3.4 波前重建技术

    7.3.5 实验系统参数设计与实验结果

    7.4 多通道Ronchi剪切干涉检测技术

    7.4.1 稀疏采样法波前重建

    7.4.2 多通道检测系统设计

    参考文献

    第8章 偏振像差检测

    8.1 偏振像差对光刻成像质量的影响

    8.2 偏振像差表征方法

    8.2.1 偏振态及其变换的表征方法

    8.2.2 穆勒矩阵表征法

    8.. 琼斯矩阵表征法

    8.2.4 三阶琼斯矩阵表征法

    8.3 基于光刻胶曝光的检测技术

    8.3.1 SPlN-BLP技术

    8.3.2 基于相移掩模的检测技术

    8.4 基于椭偏测量的检测技术

    8.4.1 穆勒光瞳检测技术

    8.4.2 琼斯光瞳检测技术

    8.5 基于空间像测量的检测技术

    8.5.1 基于空间像位置偏移量的检测

    8.5.2 基于差分空间像主成分分析的检测

    参考文献

    第9章 极紫外光刻投影物镜波像差检测

    9.1 基于干涉测量的检测技术

    9.1.1 点衍干涉检测

    9.1.2 剪切干涉检测

    9.1.3 Fizeau干涉检测

    9.2 基于Hartmann波前传感器的检测技术

    9.3 基于空间像测量的检测技术

    9.3.1 基于空间像匹配的检测技术

    9.3.2 基于波前局部曲率测量的检测技术

    9.4 基于Ptychography的检测技术

    9.4.1 基本原理

    9.4.2 相位恢复算法

    9.4.3 光场传播公式

    9.4.4 与实验

    9.5 基于光刻胶曝光的检测技术

    参考文献

    0章 像质检测关键依托技术

    10.1 工件台位置参数检测技术

    10.1.1 工件台基座表面形貌测量技术

    10.1.2 承片台不平度检测技术

    10.1.3 承片台方镜表面不平度检测技术

    10.1.4 工件台水平坐标系校正参数检测技术

    10.2 调焦调平传感技术

    10.2.1 狭缝投影位置传感技术

    10.2.2 光栅投影位置传感技术

    10.3 硅片对准技术

    10.3.1 自相干莫尔条纹对准技术

    10.3.2 基于标记结构优化的对准精度提升方法

    10.3.3 基于多通道对准信号的对准误差补偿技术

    10.4 照明参数检测与控制技术

    10.4.1 照明参数优化

    10.4.2 照明光瞳偏振参数检测技术

    10.4.3 照明均匀控制技术

    10.4.4 曝光剂量控制技术

    10.5 光刻成像多参数优化技术

    10.5.1 光源优化技术

    10.5.2 掩模优化技术

    10.5.3 光塬掩模联合优化技术

    10.5.4 光源掩模投影物镜联合优化技术

    10.5.5 光刻机多参数联合优化技术

    10.6 EUV光刻掩模衍成像技术

    10.6.1 无缺陷掩模衍场技术

    10.6.2 含缺陷掩模衍场技术

    参考文献

    后记

    售后保障

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