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  • 醉染图书微小世界里的新天地:的薄膜9787030319357
  • 正版全新
    • 作者: (日)麻莳立男著 | (日)麻莳立男编 | (日)麻莳立男译 | (日)麻莳立男绘
    • 出版社: 科学出版社
    • 出版时间:2011-08-01
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    • 作者: (日)麻莳立男著| (日)麻莳立男编| (日)麻莳立男译| (日)麻莳立男绘
    • 出版社:科学出版社
    • 出版时间:2011-08-01
    • 版次:1
    • 印次:3
    • 字数:148000
    • 页数:200
    • 开本:A5
    • ISBN:9787030319357
    • 版权提供:科学出版社
    • 作者:(日)麻莳立男
    • 著:(日)麻莳立男
    • 装帧:平装
    • 印次:3
    • 定价:45.00
    • ISBN:9787030319357
    • 出版社:科学出版社
    • 开本:A5
    • 印刷时间:暂无
    • 语种:暂无
    • 出版时间:2011-08-01
    • 页数:200
    • 外部编号:1202326884
    • 版次:1
    • 成品尺寸:暂无

    章幸福生活从美丽与微观开始

    001展现缤纷色彩的颜料用微小粉末描绘美丽世界

    002复制美丽——相片彩色相片与数码相机

    003薄膜技术使机器人不断进化利用薄膜材料与计算机进行精密制备

    004创造五种感官视觉、听觉、嗅觉、味觉与触觉的创造

    005制造人工智能

    006我们身边的产品都在使用薄膜

    007利用不分解的压延技术,可以薄到什么程度

    008制造薄膜与制作精细图案

    COLUMN真空的含义

    第2章制备薄膜的重要环境条件——真空

    009真空——压强低于大气压的空间状态

    010真空的单位与压强的单位:帕斯卡(Pa)

    011抽出和吸附——真空泵的分类

    012真空的分析和测量真空计

    013真空装置的制造方法

    COLUMN质量瞬移

    第3章薄膜的制备

    014薄膜的形成——先气化,再固化沉积

    015四种气化源

    016单层生长与形核长大薄膜的生长①

    017薄膜内部缺陷薄膜的生长②

    018仅有薄膜还不够薄膜与基板的结合

    019目标:单晶薄膜

    COLUMN出身和教育同样重要

    第4章薄膜特有的质

    020薄膜的密度和厚度会随时间减小

    021薄膜电阻的变化比体材料
    022热稳定降低通过时效处理加以克服

    COLUMN薄膜和基板的连接

    第5章基板与薄膜结合的技术

    0制膜的基础:平整的基板

    024前期处理:使基板表面接近裸
    025前期处理的工序:干燥

    026制备附着强度更强的薄膜

    027改变气化源、增加附着强度

    028薄膜与基板的相合更为重要

    029着陆点:险峻的山地

    030得到希望的薄膜组成

    031制造用于大面积集成电路的非晶薄膜

    032电迁移断线及其解决方法

    COLUMN太阳之子——等离子体

    第6章等离子体在薄膜制备中的重要

    033等离子体的之处及其应用

    034通过放电获得等离子体

    035低气压(良好真空)下的磁控放电

    036产生薄膜用等离子体的五种方法

    037薄膜制备的难题——尘埃

    COLUMN望远镜和照相机视场变亮的奥秘

    第7章从古代沿用至今的蒸镀法

    038蒸发源

    039加工等厚膜的方法

    040离子镀的使用

    041进一步发挥离子的作用

    042防止蒸镀材料与薄膜间的成分变化激光沉积法

    043制作透明导电的薄膜透明导电薄膜的蒸镀方法

    COLUMN活学活用

    第8章大面积气化源、适于批量生产的溅法

    044溅率是由离子能量和薄膜材料的种类决定的

    045溅产生的原子遵循余弦法则且速度快

    046溅的主要方式

    047以低电压、定压(高真空)为目标的磁控溅

    048支撑半导体IC高集成度发展的铝合金溅

    049利用反应溅制作高能电阻膜

    050用溅法制作氧化物高温超导膜

    051低电压下制造透明导电膜(氧化物)ITO

    052薄膜加工的过渡——从平面成膜到微孔成膜

    053利用离子进行超微细孔的填埋

    054向高真空、无氩气溅的过渡

    COLUMN的过程——从气体到薄膜

    第9章由气体制作薄膜的气相沉积法

    055气体向固体的转变:薄膜的气相沉积

    056很多的CVD方法已被实用化

    057CVD法制备IC中至关重要的硅系薄膜

    058高清彩色电视用的硅薄膜

    059高诱电率薄膜和低诱电率薄膜的制作

    060用气相沉积法制备金属导体薄膜

    061表面改法制备氧化薄膜、氮化薄膜

    COLUMN从水(液体)中提取薄膜(固体)

    0章在液体中制作镀膜

    062镀膜技术的发展

    063液相镀膜和真空薄膜中的核生长

    064精密镀膜在电气领域的应用

    COLUMN用小的行切削加工

    1章将薄膜加工成电路、晶体管等的蚀刻技术

    065蚀刻法制备图样:在正确的位置加工正确的形状

    066用气体离子进行蚀刻

    067关键的一步——等离子体的制备

    068反应气体是重要的

    069决定蚀刻的条件

    070利用极细离子束进行故障修理

    071利用CMP行坦化处理

    072无CMP的平坦化技术

    COLUMN向伟大的梦想前进!

    2章薄膜发展的可能

    073操控原子,制造未来仪器

    074薄膜——带动世界通信网络发展

    075用微动同步器挽救生命

    076生物计算机的使用

    参考文献

    译后记

    售后保障

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