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  • 醉染图书石墨烯薄膜制备9787127528
  • 正版全新
    • 作者: 李雪松,陈远富,青芳竹著 | 李雪松,陈远富,青芳竹编 | 李雪松,陈远富,青芳竹译 | 李雪松,陈远富,青芳竹绘
    • 出版社: 化学工业出版社
    • 出版时间:2019-06-01
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    • 作者: 李雪松,陈远富,青芳竹著| 李雪松,陈远富,青芳竹编| 李雪松,陈远富,青芳竹译| 李雪松,陈远富,青芳竹绘
    • 出版社:化学工业出版社
    • 出版时间:2019-06-01
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 字数:303000
    • 页数:234
    • 开本:16开
    • ISBN:9787122337528
    • 版权提供:化学工业出版社
    • 作者:李雪松,陈远富,青芳竹
    • 著:李雪松,陈远富,青芳竹
    • 装帧:平装
    • 印次:1
    • 定价:88.00
    • ISBN:9787122337528
    • 出版社:化学工业出版社
    • 开本:16开
    • 印刷时间:暂无
    • 语种:暂无
    • 出版时间:2019-06-01
    • 页数:234
    • 外部编号:1201896967
    • 版次:1
    • 成品尺寸:暂无

    章 石墨烯简介/ 001
    1.1 发展历程001
    1.2 结构与质002
    1.3 分类及命名004
    1.4 结构表征与能测量005
    1.4.1光学显微分析005
    1.4.2拉曼光谱分析006
    1.4.3显微分析007
    1.4.4扫描探针显微分析008
    1.4.5表征技术008
    1.4.6电学能测量008
    1.5 石墨烯的应用010
    1.6 制备方法011
    参考文献012
    第2章 化学气相沉积技术/ 017
    2.1 CVD的特征、分类及发展017
    2.1.1CVD的特征017
    2.1.2CVD的分类018
    2.1.3CVD的发展020
    2.2 CVD反应原理021
    2.2.1CVD反应过程021
    2.2.2CVD反应类型022
    2..CVD的热、动力学原理024
    . 真空技术基础028
    ..1真空的概念及分类028
    ..2真空系统抽气过程定量描述029
    ..真空系统及真空泵031
    ..4真空测量及真空检漏032
    2.4 CVD系统简介034
    2.4.1CVD系统的组成034
    2.4.2常见CVD系统035
    2.5 CVD反应过程控制040
    2.5.1CVD反应的主要参数040
    2.5.2CVD工艺参数及过程控制041
    2.6 CVD制备石墨烯概述042
    2.6.1CVD制备石墨烯的发展历程042
    2.6.2CVD制备石墨烯的分类044
    参考文献045
    第3章 石墨烯的成核与生长/ 047
    3.1 石墨烯CVD生长过程047
    3.2 气相反应048
    3.3 甲烷的吸附与分解050
    3.4 活基团052
    3.5 石墨烯的成核055
    3.6 石墨烯单晶的生长形状060
    3.6.1Wulff构型060
    3.6.2热力学平衡结构060
    3.6.3动力学稳定和长行为063
    3.6.4单晶形状的实验结果064
    参考文献078
    第4章 石墨烯单晶制备/ 081
    4.1 石墨烯成核密度的控制081
    4.1.1基底表面的影响081
    4.1.2碳杂质的影响082
    4.1.3温度的影响086
    4.1.4甲烷和氢气的影响088
    4.1.5限域生长089
    4.1.6氧的影响090
    4.1.7基底表面钝化093
    4.1.8多级生长094
    4.1.9定位成核095
    4.2 同取向外延生长098
    4.2.1大面积Cu(111)单晶基底制备099
    4.2.2石墨烯的外延生长103
    参考文献105
    第5章 石墨烯的层数控制/ 107
    5.1 表面控制生长108
    5.1.1共生长109
    5.1.2面上生长111
    5.1.3面下生长121
    5.1.4影响石墨烯层数的因素125
    5.2 溶解度控制生长143
    5.2.1降温速度控制144
    5.2.2容量控制144
    5..溶解度控制146
    参考文献148
    第6章 石墨烯薄膜的转移/ 151
    6.1 聚合物辅基底刻蚀法151
    6.1.1PDMS辅转移152
    6.1.2PMMA辅转移154
    6.1.3TRT辅转移157
    6.2 聚合物辅剥离法157
    6.2.1机械剥离158
    6.2.2电化学剥离转移161
    6.3 直接转移法166
    6.3.1热层压法166
    6.3.2静电吸附167
    6.3.3“面对面”转移170
    6.3.4自组装层171
    参考文献172
    第7章 面向工业应用的石墨烯薄膜制备/ 175
    7.1 低温制备技术175
    7.1.1TCVD法176
    7.1.2PECVD法188
    7.2 非金属基底制备技术193
    7.2.1半导体/绝缘介质基底193
    7.2.2h-BN基底209
    7..玻璃基底211
    7.2.4半导体或高k介质基底215
    7.3 大面积及工业化制备217
    7.3.1片式制备217
    7.3.2卷对卷制备与转移218
    参考文献2
    第8章 总结与展望/ 228
    参考文献2

     

     

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