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- 商品参数
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- 作者:
无著
- 出版社:电子工业出版社
- ISBN:9780604823896
- 版权提供:电子工业出版社
店铺公告
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本书从CMOS芯片结构技术出发,系统地介绍了微米﹑亚微米﹑深亚微米及纳米CMOS制造技术,内容包括单阱 CMOS﹑双阱CMOS﹑LV/HV 兼容 CMOS﹑BiCMOS﹑LV/HV兼容BiCMOS,以及LV/HV兼容BCD制造技术。全书各章都采用由CMOS芯片主要元器件﹑制造技术及主要参数所组成的综合表,从芯片结构出发,利用计算机和它所提供的软件,描绘出芯片制造的各工序剖面结构,从而得到制程剖面结构。书中给出了100种典型CMOS芯片结构,介绍了各种典型制造技术,并描绘出50种制程剖面结构。深入地了解芯片制程剖面结构,对于电路设计﹑芯片制造﹑良率提升﹑产品质量提高及电路失效分析等都是十分重要的。本书技术含量高,非常实用,可作为芯片设计﹑制造﹑测试及可靠性等方面工程技术人员的重要参考资料,也可作为微电子专业高年级本科生的重要参考书,还可供信息领域其他专业的学生和相关科研人员﹑工程技术人员参考。
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