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  • 音像气相沉积技术原理及应用张世宏,王启民,郑军 编
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    • 作者: 张世宏,王启民,郑军 编著 | 张世宏,王启民,郑军 编编 | 张世宏,王启民,郑军 编译 | 张世宏,王启民,郑军 编绘
    • 出版社: 冶金工业出版社
    • 出版时间:2020-12-01
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    • 作者: 张世宏,王启民,郑军 编著| 张世宏,王启民,郑军 编编| 张世宏,王启民,郑军 编译| 张世宏,王启民,郑军 编绘
    • 出版社:冶金工业出版社
    • 出版时间:2020-12-01
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 字数:233000
    • 页数:192
    • 开本:16开
    • ISBN:9787502486587
    • 版权提供:冶金工业出版社
    • 作者:张世宏,王启民,郑军 编
    • 著:张世宏,王启民,郑军 编
    • 装帧:平装
    • 印次:1
    • 定价:68.00
    • ISBN:9787502486587
    • 出版社:冶金工业出版社
    • 开本:16开
    • 印刷时间:暂无
    • 语种:暂无
    • 出版时间:2020-12-01
    • 页数:192
    • 外部编号:1202519021
    • 版次:1
    • 成品尺寸:暂无

    篇物理气相沉积技术

    1真空镀膜技术基础

    1.1真空镀膜技术简介

    1.2真空镀膜系统

    1.2.1真空的获得

    1.2.2真空的测量

    1.3薄膜的表征

    1.3.1薄膜的成分和结构

    1.3.2薄膜的硬度

    1.3.3薄膜的结合力

    2PVD薄膜成膜原理

    2.1等离子体特

    2.1.1等离子体的基本参量以及等离子体温度

    2.1.2等离子体振荡

    2.1.3等离子体的屏蔽效应及德拜长度

    2.1.4等离子体鞘层与等离子体电位

    2.2凝结过程

    .薄膜的形核与生长

    ..1自发形核

    ..2非自发形核

    ……

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