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音像等离子体技术(意)里卡尔多·达阿戈斯蒂诺
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章 等离子体生成与控制的基本方法
1.1 等离子体生成
1.1.1 低气压下的生成(<0.1torr)
1.1.2 中气压下的生成(0.1~10torr)
1.1.3 高气压(大气压)下的生成(>10torr)
1.2 能量控制
1.2.1 温度控制
1.2.2 离子能量控制
1.3 尘埃的收集与清除
致谢
参考文献
第2章 等离子体源与反应器配置
2.1 引言
2.2 ICP特
2.2.1 原理
2.2.2 变压器模型
2.. 技术方面
. 源和反应器的配置
..1 基板形状
2.4 结论
参考文献
第3章 工业等离子体应用的高级
3.1 引言
3.2 PIC
3.2.1 电容耦合的Ar/O2等离子体
3.2.2 三维(3D)充电
3.3 流体
3.3.1 电容耦合放电
3.3.2 大范国等离子体源
3.4 小结
致谢
参考文献
第4章 用于聚合物处理的氮气放电的建模与诊断
4.1 引言
4.2 实验
4.3 模型描述
4.4 结果与讨论
4.4.1 电特
4.4.2 气相化学
4.4.3 等离子体与表面的相互作用
4.5 结论
参考文献
第5章 用于源和工业过程设计的热等离子体(频与转移电弧)的三维建模
5.1 引言
5.2 感应耦合等离子体炬
5.2.1 建模方法
5.2.2 选定的结果
5.3 直流转移电弧等离子体炬
5.3.1 建模方法
5.3.2 选择的结果
参考文献
第6章 用于半导体处理的频等离子体源
6.1 引言
6.2 电容耦合等离子体
6.2.1 双频CCP
6.3 电感耦合等离子体
6.3.1 基本描述
6.3.2 反常趋肤深度
……
第7章 用于薄膜沉积的优选等离子体诊断
第8章 电极非对称配置低频放电的聚合物材料等离子体处理
第9章 碳氟化合物薄膜等离子体沉积的基础
0章 硅薄膜太阳能电池的等离子体化学气相沉积(CVD)工艺
1章 用于太阳能电池的甚高频(VHF)等离子体生成
2章 在反应等离子体中的团簇生长控制及其在高稳定a-Si:H薄膜沉积中的应用
3章 生物材料等离子体工艺中的微纳米结构:微纳米功能是解决选择物反应的有效工具
4章 在生物医学应用的等离子体改基板上化学固化生物分子
5章 评估等离子体改表面物相容的体外方法
6章 生物医学中的冷气等离子体
7章 低压等离子体消毒与表面净化的机理
8章 大气压辉光等离子体的应用:大气压辉光等离子体中的粉末涂层
9章 在大气压辉光介质阻挡放电中碳氢聚合物与碳氟聚合物薄膜的沉积
第20章 关于现代应用的大气压非热等离子体生成的评述
2章 等离子体彩色显示的现状与未来
第22章 PDP等离子体特
第章 等离子体喷涂工艺的近期新进展
第24章 电解液放电直接等离子体水处理工艺
第25章 优选空间推进技术的发展与物理问题
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