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正版新书]超低损耗激光薄膜技术(精)刘华松//季一勤//王占山//崔
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第1章 超低损耗激光薄膜技术背景1.1 超低损耗激光薄膜技术的应用背景1.1.1激光陀螺惯性导航器件1.1.2引力波探测科学装置1.2超低损耗激光薄膜技术发展历程1.2.1超低损耗激光薄膜的设计1.2.2超低损耗激光薄膜的损耗控制1.2.3超低损耗激光薄膜制备技术1.2.4超低损耗激光薄膜材料技术1.2.5超低损耗激光薄膜测试与表征技术1.3国内外超低损耗激光薄膜性能1.3.1国外报道的超低损耗薄膜性能1.3.2国内报道的超低损耗薄膜性能第2章 超低损耗激光薄膜理论与技术2.1超低损耗薄膜基本理论2.1.1薄膜基本设计理论2.1.2薄膜的吸收理论 2.1.3薄膜散射理论2.2离子束沉积制备技术2.2.1离子束溅射的基本原理2.2.2离子束溅射主要制备参数的选择2.3薄膜常规特性表征技术2.3.1分光光谱性能表征 2.3.2椭偏光谱性能表征2.3.3膜层表面形貌的表征技术2.3.4膜层应力表征技术 2.3.5膜层结构的表征技术2.4积分散射与超低透射损耗的表征 2.4.1积分散射的测试装置2.4.2超低透射率的测试装置2.5弱吸收损耗的表征技术2.6低损耗激光薄膜的实验方法第3章 低损耗薄膜材料的光学常数研究3.1引言 3.2 典型的光学常数反演方法 3.2.1极值包络线法 3.2.2全光谱拟合方法 3.2.3上述两种方法的对比结果 3.3光谱测试与表征问题 3.3.1薄膜光谱特性的表征方法 3.3.2光谱透射率测试的优化 3.4光学常数反演的两个问题 3.4.1基底-薄膜系统的赝布儒斯特角 3.4.2光谱数据点选择问题 3.5光学常数反演合理性与误差 3.5.1单层膜反演光学常数物理模型合理性 3.5.2椭偏光谱反解光学常数的光斑效应 第4章 低损耗激光多层膜薄膜的设计4.1超高反射率多层薄膜设计 4.1.1多层膜的周期结构特点 4.1.2膜层具有折射率色散的多层膜设计 4.1.3倾斜入射高反射多层膜的设计 4.2超低剩余反射薄膜设计 4.2.1减反射薄膜的基本结构 4.2.2界面层对激光减反膜的影响研究 4.2.3含有亚表面损伤层的超低剩余反射率薄膜设计 4.2.4含有折射率非均质性的减反射薄膜设计 第5章 低损耗薄膜吸收损耗控制5.1吸收损耗的控制设计 5.2 金属氧化物薄膜材料的能带控制吸收损耗 5.2.1Ta2O5薄膜材料的能带结构控制 5.2.2HfO2薄膜材料的能带结构控制 5.3基于热处理的金属氧化物薄膜吸收损耗控制 5.3.1基于后处理的Ta2O5薄膜材料损耗控制 5.3.2基于后处理的HfO2薄膜材料损耗控制 5.4基于热等静压热处理的金属氧化物薄膜后处理 5.4.1Ta2O5薄膜材料热等静压处理 5.4.2HfO2薄膜材料热等静压处理 5.5SiO2薄膜缺陷诱导吸收损耗 5.5.1全谱段SiO2薄膜材料的光学常数 5.5.2SiO2薄膜材料本征微结构特性 5.5.3SiO2薄膜制备参数与特性关联性 5.5.4基于氧气流量的SiO2薄膜特性研究 5.5.5SiO2薄膜极低消光系数的表征方法 第6章 低损耗多层膜散射损耗控制6.1高反射薄膜散射的数值研究 6.2基底超光滑表面加工 6.2.1表面加工的基本流程 6.2.2工件的研磨和预抛光 6.2.3沥青抛光模对超光滑表面的影响 6.2.4抛光液对超光滑表面的影响 6.2.5超光滑表面的加工结果 6.3亚表面的机制与评价 6.3.1亚表面产生的机制 6.3.2亚表面损伤层的测试方法 6.3.3亚表面损伤层的讨论 6.4基底表面处理与多层膜界面处理 6.4.1基板表面散射缺陷源处理 6.4.2多层膜界面的散射处理 第7章 超低损耗激光多层膜性能表征技术7.1多层膜总损耗表征技术 7.1.1腔衰减振荡方法的原理 7.1.2谐振腔反射镜的定标问题 7.1.3超低损耗薄膜的测试方法 7.1.4超低损耗薄膜的误差问题 7.2低损耗多层膜的测试表征结果 7.2.1超低损耗高反射薄膜测试结果 7.2.2超低损耗减反射薄膜测试结果 第8章 低压放电等离子体诱导薄膜性能退化机制8.1引言 8.2低压放电等离子体特性 8.2.1气体放电的光谱能级 8.2.2等离子温度的表征方法 8.2.3激光陀螺放电特性实验 8.3薄膜的低能电子辐照效应 8.3.1电子辐照效应的物理机制 8.3.2介电常数方程的修正 8.3.3电子辐照-薄膜响应方程 8.4薄膜损伤增强的设计方法 8.4.1电子损伤的低损耗多层膜仿真计算 8.4.2低损耗多层膜电子损伤的分析 8.5 小结
刘华松(1980-),男,理学博士,博士后,研究员,现任八三五八研究所先进光学薄膜与材料技术研究室主任,天津市薄膜光学重点实验室副主任,八三五八研究所科学技术委员会光学专业技术组长,光学薄膜设计与制造专业主任研究师。
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