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  • 正版 磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能 肖剑荣著 水利水电出
  • 新华书店旗下自营,正版全新
    • 作者: 肖剑荣著著 | 肖剑荣著编 | 肖剑荣著译 | 肖剑荣著绘
    • 出版社: 水利水电出版社
    • 出版时间:2018-08-01
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    • 作者: 肖剑荣著著| 肖剑荣著编| 肖剑荣著译| 肖剑荣著绘
    • 出版社:水利水电出版社
    • 出版时间:2018-08-01
    • 版次:1
    • 印刷时间:2019-04-01
    • 字数:146千字
    • 页数:173
    • 开本:小16开
    • ISBN:9787517074397
    • 版权提供:水利水电出版社
    • 作者:肖剑荣著
    • 著:肖剑荣著
    • 装帧:平装
    • 印次:暂无
    • 定价:57.00
    • ISBN:9787517074397
    • 出版社:水利水电出版社
    • 开本:小16开
    • 印刷时间:2019-04-01
    • 语种:中文
    • 出版时间:2018-08-01
    • 页数:173
    • 外部编号:9484341
    • 版次:1
    • 成品尺寸:暂无


    目录
    前 言
    第1章 绪论 
    11 薄膜简介 
    12 薄膜的性质 
    13 薄膜制备技术 
    14 薄膜的表征技术 
    ?
    第2章 氮化铜薄膜研究现状 
    21 Cu3N薄膜的制备技术 
    22 Cu3N薄膜的晶体结构 
    23 电学和光学性能 
    24 热、力学性能和耐腐蚀性 
    25 Cu3N薄膜的应用 
    ?
    第3章 氮化铜薄膜的制备 
    31 磁控溅射技术 
    32 JGP450a型多功能磁控溅射系统 
    33 氮化铜薄膜的制备 
    ?
    第4章 氮化铜薄膜的结构研究 
    41 薄膜的结构分析 
    42 薄膜的表面形貌 
    43 薄膜的组分 
    44 薄膜的晶格常数 
    ?
    第5章 氮化铜的性能研究 
    51 薄膜的电学性能 
    52 薄膜的光学性能 
    53 薄膜的热稳定性研究 
    第6章 氮化铜的第一性原理研究 
    ?
    62 计算方法及过程 
    63 氮化铜的电子结构计算结果 


    磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术,其制备工艺可调剂参数较多,通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系,探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。全书结构合理,条理清晰,内容丰富新颖,可供相关工程技术人员参考使用。

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