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  • 正版 宽禁带半导体高频及微波功率器件与电路 赵正平等著 国防工
  • 新华书店旗下自营,正版全新
    • 作者: 赵正平等著著 | 赵正平等著编 | 赵正平等著译 | 赵正平等著绘
    • 出版社: 国防工业音像出版社
    • 出版时间:2015-12-01
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    • 作者: 赵正平等著著| 赵正平等著编| 赵正平等著译| 赵正平等著绘
    • 出版社:国防工业音像出版社
    • 出版时间:2015-12-01
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 印刷时间:2017-12-01
    • 字数:370千字
    • 页数:291
    • 开本:小16开
    • ISBN:9787118114546
    • 版权提供:国防工业音像出版社
    • 作者:赵正平等著
    • 著:赵正平等著
    • 装帧:平装-胶订
    • 印次:1
    • 定价:98.00
    • ISBN:9787118114546
    • 出版社:国防工业出版社
    • 开本:小16开
    • 印刷时间:2017-12-01
    • 语种:中文
    • 出版时间:2015-12-01
    • 页数:291
    • 外部编号:9293304
    • 版次:1
    • 成品尺寸:暂无


    第1章 绪论
    1.1 电力电子器件的发展
    1.1.1 Si电力电子器件的发展
    1.1.2 宽禁带电力电子器件的发展
    1.1.3 我国电力电子器件的发展
    1.2 固态微波器件的发展
    1.2.1 Si和GaAs固态微波器件与电路的发展
    1.2.2 SiC固态微波器件与电路发展
    1.2.3 GaN固态微波器件与电路发展
    1.3 固态器件在雷达领域的应用
    1.3.1 si、GaAs固态微波器件与固态有源相控阵雷达
    1.3.2 SiC、GaN固态微波器件与T/R模块
    1.3.3 siC、GaN高频开关功率器件与开关功率源/固态脉冲调制源
    参考文献
    第2章 宽禁带半导体材料
    2.1 氮化镓和碳化硅晶体材料
    2.1.1 GaN晶体性质和制备
    2.1.2 SiC晶体性质和制备
    2.2 碳化硅材料的同质外延生长技术
    2.2.1 SiC同质外延生长方法
    2.2.2 SiC CVD同质外延关键技术
    2.2.3 SiC外延层缺陷
    2.3 氮化物材料的异质外延生长技术
    2.3.1 氮化物外延生长基本模式和外延衬底的选择
    2.3.2 用于氮化物异质外延的金属有机物化学气相沉积技术
    2.3.3 氮化物异质外延生长中的几个重要问题
    2.4 宽禁带半导体材料的表征方法
    2.4.1 X射线衍射测试
    2.4.2 原子力显微镜测量
    2.4.3 光致发光谱测量
    2.4.4 傅里叶变换红外谱厚度测试
    2.4.5 汞探针C—V法测量杂质浓度分布
    参考文献
    第3章 碳化硅高频功率器件
    3.1 SiC功率二极管
    3.1.1 siC肖特基二极管
    3.1.2 siC PIN二极管
    3.1.3 SiC JBS二极管
    3.1.4 siC二极管进展
    3.1.5 siC二极管应用
    3.2 SiC MESFET
    3.2.1 工作原理
    3.2.2 SiC MESFET研究进展
    3.2.3 SiC MESFET应用
    3.3 SiC MOSFET
    3.3.1 工作原理
    3.3.2 关键工艺
    3.3.3 SiC MOSFET进展
    3.3.4 SiC MOSFET应用
    3.4 siC JFET

      

    本书将介绍新世纪十几年来第三代半导体——宽禁带半导体在固态高频和微波领域的发展,形成了新一代电力电子器件和第五代固态微波器件的格局。包括:宽禁带半导体材料;碳化硅高频功率器件;氮化镓微波功率器件与电路;展望。

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