返回首页
苏宁会员
购物车 0
易付宝
手机苏宁

服务体验

店铺评分与同行业相比

用户评价:----

物流时效:----

售后服务:----

  • 服务承诺: 正品保障
  • 公司名称:
  • 所 在 地:

  • 正版 晶体生长手册:第4册:蒸发及外延法晶体生长技术 (美)Govindh
  • 新华书店旗下自营,正版全新
    • 作者: (美)Govindhan Dhanaraj等主编著 | (美)Govindhan Dhanaraj等主编编 | (美)Govindhan Dhanaraj等主编译 | (美)Govindhan Dhanaraj等主编绘
    • 出版社: 哈尔滨工业大学出版社
    • 出版时间:2012-11-01
    送至
  • 由""直接销售和发货,并提供售后服务
  • 加入购物车 购买电子书
    服务

    看了又看

    商品预定流程:

    查看大图
    /
    ×

    苏宁商家

    商家:
    美阅书店
    联系:
    • 商品

    • 服务

    • 物流

    搜索店内商品

    商品分类

    商品参数
    • 作者: (美)Govindhan Dhanaraj等主编著| (美)Govindhan Dhanaraj等主编编| (美)Govindhan Dhanaraj等主编译| (美)Govindhan Dhanaraj等主编绘
    • 出版社:哈尔滨工业大学出版社
    • 出版时间:2012-11-01
    • 版次:1
    • 印刷时间:2013-01-01
    • 页数:417
    • 开本:16开
    • ISBN:9787560338699
    • 版权提供:哈尔滨工业大学出版社
    • 作者:(美)Govindhan Dhanaraj等主编
    • 著:(美)Govindhan Dhanaraj等主编
    • 装帧:平装
    • 印次:暂无
    • 定价:88.00
    • ISBN:9787560338699
    • 出版社:哈尔滨工业大学出版社
    • 开本:16开
    • 印刷时间:2013-01-01
    • 语种:英语
    • 出版时间:2012-11-01
    • 页数:417
    • 外部编号:7906044
    • 版次:1
    • 成品尺寸:暂无

    缩略语
    PartD 晶体的气相生长
    23 SiC晶体的生长与表征
     23.1 SiC-背景与历史
     23.2 气相生长
     23.3 高温溶液生长
     23.4 籽晶升华的产业化体材料生长
     23.5 结构缺陷及其构造
     23.6 结语
     参考文献
    24 物理气相传输法生长体材料AIN晶体
     24.1 物理气相传输法晶体生长
     24.2 高温材料兼容
     24.3 AIN体材料晶体的自籽晶生长
     24.4 AIN体材料晶体的籽晶生长
     24.5 高质量晶体表征
     24.6 结论与展望
     参考文献
    25 单晶有机半导体的生长
     25.1 基础
     25.2 成核与晶体生长理论
     25.3 对半导体单晶有机材料的兴趣
     25.4 提纯预生长
     25.5 晶体生长
     25.6 有机半导体单晶的质量
     25.7 有机单晶场效应晶体管
     25.8 结论
     参考文献
    26 卤化物气相外延生长Ⅲ族氮化物
     26.1 生长化学和热力学
     26.2 HVPE生长设备
     26.3 体材料GaN的生长衬底和模版
     26.4 衬底除去技术
     26.5 HVPE中GaN的掺杂方法
     26.6 缺陷密度、位错和残留杂质
     26.7 HVPE生长的体材料GaN的一些重要性能
     26.8 通过HVPE生长AIN:一些初步的结论
     26.9 通过HVPE生长InN:一些初步的结论
     参考文献
    27 半导体单晶的气相生长
     27.1 气相生长分类
     27.2 化学气相传输——传输动力学
     27.3 热力学讨论
     27.4 CVT法Ⅱ-Ⅵ化合物半导体的生长
     27.5 纳米材料的气相生长
     27.6Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ,化合物生长
     27.7 VPE法生长氮化镓
     27.8 结论
     参考文献
    PartE 外延生长和薄膜
    28化学气相沉积的碳化硅外延生长
     28.1 碳化硅极化类型
     28.2 碳化硅的缺陷
     28.3 碳化硅外延生长
     28.4 图形衬底上的外延生长
     28.5 结论
     参考文献
    29 半导体的液相电外延
     29.1 背景
     29.2 早期理论和模型的研究
     ……
    30 半导体的外延横向增生
    31 新材料的液相外延
    32 分子束外延的HgCdTe生长
    33 稀释氮化物的金属有机物气相外延和砷化物量子点
    34 锗硅异质结的形成及其特性
    35 脉冲激光的等离子能量和脉冲电子淀积

    GovindhanDhanarajistheManagerofCrystalGrowthTechnologiesatAdvancedRenewableEnergyCompany(ARCEnergy)atNashua,NewHampshire(USA)focusingonthegrowthoflargesizesapphirecrystalsforLEDlightingapplications,characterizationandrelatedcrystalgrowthfurnacedevelopment.HereceivedhisPhDfromtheIndianInstituteofScience,BangaloreandhisMasterofSciencefromAnnaUniversity(India).Immediatelyafterhisdoctoraldegree,Dr.DhanarajjoinedaNationalLaboratory,presentlyknownasRajaramannaCenterforAdvancedTechnologyinIndia,whereheestablishedanadvancedCrystalGrowthLaboratoryforthegrowthofopticalandlasercrystals.PriortojoiningARCEnergy,Dr.DhanarajservedasaResearchProfessorattheDepartmentofMaterialsScienceandEngineering,StonyBrookUniversity,NY,andalsoheldapositionofResearchAssistantProfessoratHamptonUniversity,VA.Duringhis25yearsoffocusedexpertiseincrystalgrowthresearch,hehasdevelopedoptical,laserandsemiconductorbulkcrystalsandSiCepitaxialfilmsusingsolution,flux,Czochralski,Bridgeman,gelandvapormethods,andcharacterizedthemusingx-raytopography,synchrotrontopography,chemicaletchingandopticalandatomicforcemicroscopictechniques.Heco-organizedasymposiumonIndustrialCrystalGrowthunderthe17thAmericanConferenceonCrystalGrowthandEpitaxyinconjunctionwiththe14thUSBiennialWorkshoponOrganometallicVaporPhaseEpitaxyheldatLakeGeneva,WIin2009.Dr.Dhanarajhasdeliveredinvitedlecturesandalsoservedassessionchairmaninmanycrystalgrowthandmaterialssciencemeetings.Hehaspublishedover100papersandhisresearcharticleshaveattractedover250richcitations.

        《springer手册精选系列·晶体生长手册(第4册):蒸发及外延法晶体生长技术(影印版)》的主题是气相生长。这一部分提供了碳化硅、氮化镓、氮化铝和有机半导体的气相生长的内容。随后的parte是关于外延生长和薄膜的,主要包括从液相的化学气相淀积到脉冲激光和脉冲电子淀积。 

    德哈纳拉等著的《晶体生长手册(第4册蒸发及外延法晶体生长技术影印版》针对目前备受关注的体材料晶体和薄膜晶体的生长技术水平进行阐述。我们的目的是使读者了解经常使用的生长工艺、材料生产和缺陷产生的基本知识。为完成这一任务,编者们精选了50多位顶尖科学家、学者和工程师,他们的合作者来自于22个不同国家。这些作者根据他们的专业所长,编写了关于晶体生长和缺陷形成共计52章内容:从熔体、溶液到气相体材料生长;外延生长;生长工艺和缺陷的模型;缺陷特性的技术以及一些现代的特别课题。

    售后保障

    最近浏览

    猜你喜欢

    该商品在当前城市正在进行 促销

    注:参加抢购将不再享受其他优惠活动

    x
    您已成功将商品加入收藏夹

    查看我的收藏夹

    确定

    非常抱歉,您前期未参加预订活动,
    无法支付尾款哦!

    关闭

    抱歉,您暂无任性付资格

    此时为正式期SUPER会员专享抢购期,普通会员暂不可抢购