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光刻胶材料评测技术——从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶 (日)关口淳 著 方书农 译 专业科技 文轩网
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光刻胶材料评测技术——从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶
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光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,在模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道和生物芯片、光电子器件/光子器件中都有重要的应用。本书从光刻技术基础知识出发,系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术,以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术,希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。
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