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  • 光刻胶材料评测技术——从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶 (日)关口淳 著 方书农 译 专业科技 文轩网
  • 新华书店正版
    • 作者: (日)关口淳著 | | 方书农译
    • 出版社: 化学工业出版社
    • 出版时间:2024-04-01 00:00:00
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    商品参数
    • 作者: (日)关口淳著| 方书农译
    • 出版社:化学工业出版社
    • 出版时间:2024-04-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 印刷时间:2024-04-01
    • 字数:312000
    • 页数:272
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787122438003
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:化学工业出版社

    光刻胶材料评测技术——从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶

    作  者:(日)关口淳 著 方书农 译
    定  价:198
    出 版 社:化学工业出版社
    出版日期:2024年04月01日
    页  数:272
    装  帧:精装
    ISBN:9787122438003
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    内容简介

    光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,在模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道和生物芯片、光电子器件/光子器件中都有重要的应用。本书从光刻技术基础知识出发,系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术,以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术,希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。

    作者简介

    精彩内容

    目录
    第1章光刻技术概述001
    参考文献007
    第2章光刻胶的涂覆008
    2.1光刻胶涂覆装置008
    2.1.1丝网印刷涂覆法008
    2.1.2旋涂法008
    2.1.3滚涂法010
    2.1.4膜压法010
    2.1.5浸涂法010
    2.1.6喷涂法012
    2.2旋涂工艺013
    2.2.1旋涂工艺流程013
    2.2.2旋涂工艺影响因素015
    2.3HMDS处理021
    2.3.1HMDS处理原理021
    2.3.2HMDS处理效果021
    2.4预烘烤024
    2.5膜厚评测026
    ……

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