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  • 原子层沉积制造技术及生物传感应用 刘磊 著 专业科技 文轩网
  • 新华书店正版
    • 作者: 刘磊著
    • 出版社: 化学工业出版社
    • 出版时间:2024-03-01 00:00:00
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         https://product.suning.com/0070067633/11555288247.html

     

    商品参数
    • 作者: 刘磊著
    • 出版社:化学工业出版社
    • 出版时间:2024-03-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 印刷时间:2024-03-01
    • 字数:233000
    • 页数:232
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787122451248
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:化学工业出版社

    原子层沉积制造技术及生物传感应用

    作  者:刘磊 著
    定  价:158
    出 版 社:化学工业出版社
    出版日期:2024年03月01日
    页  数:232
    装  帧:精装
    ISBN:9787122451248
    主编推荐

    1.以实际案例作为切入点展开论述,贴近生活,可借鉴性强 2.图文并茂,数据详实,结构模型剖析深入,专业性强

    内容简介

    本书系统介绍了原子层沉积技术原理及生物传感应用,共分7章,主要内容包括原子层沉积(ALD)技术的基本原理、特点、系统和工作模式,聚焦于ALD技术的拓展,涉及了ALD在摩擦、电磁、噪声、量子和生物传感器领域的应用,重点介绍该技术在生物医学检测领域的前沿发展,在阐明ALD技术基本原理的同时,介绍其在前沿领域的优选性和实际应用。
    本书可供微纳制造与传感检测等领域的技术工作者阅读使用,也可作为高等院校相关专业师生的参考书。

    作者简介

    精彩内容

    目录
    1原子层沉积(ALD)概述1
    1.1原子层沉积技术原理2
    1.2原子层沉积技术的特点7
    1.3原子层沉积系统8
    1.3.1横向流动式9
    1.3.2垂直流动式9
    1.3.3径向流动式10
    1.4原子层沉积材料10
    参考文献11
    2原子层沉积技术拓展15
    2.1多金属源共馈ALD16
    2.1.1多金属源共馈ALD原理16
    2.1.2多金属源共馈ALD系统17
    2.1.3多金属源共馈ALD沉积异质结构18
    2.2等离子体增强ALD技术19
    2.2.1多金属源共馈ALD原理20
    2.2.2等离子体增强ALD的特点21
    2.2.3等离子体增强ALD系统24
    2.2.4等离子体增强ALD沉积材料26
    ……

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