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  • 聚焦离子束:应用与实践 邓昱 等 著 专业科技 文轩网
  • 新华书店正版
    • 作者: 邓昱 等著
    • 出版社: 南京大学出版社
    • 出版时间:2023-12-01 00:00:00
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         https://product.suning.com/0070067633/11555288247.html

     

    商品参数
    • 作者: 邓昱 等著
    • 出版社:南京大学出版社
    • 出版时间:2023-12-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 印刷时间:2023-12-01
    • 字数:243000
    • 页数:204
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787305274091
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:南京大学出版社

    聚焦离子束:应用与实践

    作  者:邓昱 等 著
    定  价:68
    出 版 社:南京大学出版社
    出版日期:2023年12月01日
    页  数:204
    装  帧:平装
    ISBN:9787305274091
    主编推荐

    内容简介

    聚焦离子束(FocusedIonBeam,FIB)是微纳加工、芯片失效分析、微结构科学研究的核心技术装备之一。随着材料、器件的微尺度化(纳米甚至原子尺度)、高集成化(每平方厘米集成10亿个以上的功能单元)、多功能化(在多种外场条件下工作),越来越多的材料微结构研究、器件研发须使用聚焦离子束。全书共分七章,从聚焦离子束的结构原理出发,紧密结合应用与实践,对聚焦离子束诱导沉积、溅射刻蚀、离子注入、离子束曝光、联合使用模式以及样品的前期处理进行阐述,并配有实际案例进行进一步详解。

    作者简介

    精彩内容

    目录
    第一章 聚焦离子束原理
    1.1聚焦离子束的基本结构
    1.1.1聚焦离子束的系统的分类
    1.1.2离子枪的结构
    1.1.3双束设备样品室布局与工作台
    1.2离子束与材料的作用及离子束加工基本功能原理
    1.2.1离子束与材料的作用
    1.2.2聚焦离子束的主要功能
    第二章 聚焦离子束诱导沉积
    2.1FIB中的电子束与离子束诱导沉积
    2.1.1电子束诱导沉积原理和技术特点
    2.1.2离子束诱导沉积原理和技术特点
    2.1.3离子束与电子束沉积的参数选择
    2.2沉积层的电学特性
    2.2.1离子束诱导沉积层的电学特性
    2.2.2电子束诱导沉积保护层的电学特性
    ……

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