返回首页
苏宁会员
购物车 0
易付宝
手机苏宁

服务体验

店铺评分与同行业相比

用户评价:----

物流时效:----

售后服务:----

  • 服务承诺: 正品保障
  • 公司名称:
  • 所 在 地:

  • 多尺度级联场增强金属纳米结构的构筑和性能研究 朱振东 著 专业科技 文轩网
  • 新华书店正版
    • 作者: 朱振东著
    • 出版社: 清华大学出版社
    • 出版时间:2016-12-01 00:00:00
    送至
  • 由""直接销售和发货,并提供售后服务
  • 加入购物车 购买电子书
    服务

    看了又看

    商品预定流程:

    查看大图
    /
    ×

    苏宁商家

    商家:
    文轩网图书旗舰店
    联系:
    • 商品

    • 服务

    • 物流

    搜索店内商品

    商品分类

         https://product.suning.com/0070067633/11555288247.html

     

    商品参数
    • 作者: 朱振东著
    • 出版社:清华大学出版社
    • 出版时间:2016-12-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 印刷时间:2016-12-01
    • 字数:134千字
    • 页数:108
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787302515050
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:清华大学出版社

    多尺度级联场增强金属纳米结构的构筑和性能研究

    作  者:朱振东 著
    定  价:69
    出 版 社:清华大学出版社
    出版日期:2016年12月01日
    页  数:108
    装  帧:精装
    ISBN:9787302515050
    主编推荐

    内容简介

    本文针对两种典型的多尺度体系开展研究,以多尺度结构的低成本、大面积制备为研究重点,以室温纳米压印和多参数刻蚀为,研究多尺度结构制备中的若干共性工艺难题,实现了很小关键尺寸的三维金属纳米结构的高质量、稳定可控的制备。

    作者简介

    精彩内容

    目录
    第1章 绪论
    1.1 表面等离激元光学概述
    1.2 金属纳米结构的近远场特性及其调控
    1.2.1 金属纳米结构的近远场光学特性
    1.2.2 表面等离激元模式杂化原理
    1.2.3 表面等离激元纳米结构中的法诺共振
    1.2.4 多尺度金属纳米结构中的级联场增强
    1.2.5 本节小结
    1.3 金属纳米结构的加工技术
    1.4 研究问题和研究方案
    1.5 本文的主要研究内容
    第2章 M面型光栅中LSPR模式杂化构筑级联场增强
    2.1 多尺度M面型光栅的理论建模和设计
    2.1.1 单个V型槽中的LSPR场增强
    2.1.2 M型多尺度结构中的LSPR场增强
    2.1.3 M光栅的几何面型变化对场局域的影响
    2.2 M面型光栅的制备
    2.2.1 M面型光栅的制备工艺流程
    2.2.2 多尺度结构的各向异性刻蚀过程和机理
    2.2.3 M面型光栅的制备质量保障
    2.3 M面型光栅场热点局域的实验表征
    2.4 M面型光栅用作SERS衬底的实验研究
    2.4.1 SERS检测样品的准备
    2.4.2 SERS信号的探测
    2.4.3 SERS增强因子估算
    2.4.4 对SERS检测浓度下限的实验分析
    2.5 本章小结
    第3章 金碗一金豆纳米天线阵列中LSPR与腔模式杂化构筑级联场增强
    3.1 研究背景
    3.2 多尺度PIC纳米天线阵列的理论建模和设计
    3.3 P1C纳米天线阵列中的法诺共振和级联场增强
    3.3.1 PIC阵列中的模式杂化和法诺共振
    3.3.2 PIC纳米结构中的级联场增强
    3.3.3 关键几何参数的变化对级联场增强效果的影响
    3.4 PIC纳米天线阵列的加工制备
    3.4.1 构型分析
    3.4.2 PIC阵列制备的工艺流程
    3.4.3 多尺度纳米结构加工中的关键工艺问题
    3.5 PIC阵列远场光谱特性的测量表征
    3.6 PIC阵列用作SERS衬底的实验研究
    3.6.1 待测样品制备和SERS信号探测
    3.6.2 SERS增强因子估算
    3.7 本章小结
    第4章 多尺度金属纳米结构制备中的关键工艺问题
    4.1 室温纳米压印中的关键工艺问题
    4.1.1 压印模板的制备
    4.1.2 室温压印光刻胶材料的选择
    4.1.3 室温纳米压印图形转移
    4.1.4 前烘温度对图形转移的影响
    4.1.5 保真性刻蚀技术
    4.2 多尺度纳米结构各向异性刻蚀中的关键工艺问题
    4.2.1 反应离子刻蚀的机理
    4.2.2 通过多参数可控各向异性刻蚀实现多尺度结构
    4.3 本章小结
    第5章 总结与展望
    5.1 论文工作总结
    5.2 创新性成果
    5.3 研究展望
    参考文献
    在学期间发表的学术论文与科研成果
    致谢

    售后保障

    最近浏览

    猜你喜欢

    该商品在当前城市正在进行 促销

    注:参加抢购将不再享受其他优惠活动

    x
    您已成功将商品加入收藏夹

    查看我的收藏夹

    确定

    非常抱歉,您前期未参加预订活动,
    无法支付尾款哦!

    关闭

    抱歉,您暂无任性付资格

    此时为正式期SUPER会员专享抢购期,普通会员暂不可抢购