前言第1章 光学镀膜基础11.1光学薄膜理论基础11.1.1平面电磁波在单一界面上的反射和折射11.1.2菲涅尔公式21.1.3光学薄膜特性的理论计算81.2光学薄膜设计121.2.1增透膜的设计121.2.2高反膜的设计161.2.3分光膜的设计181.2.4干涉滤光片211.3光学薄膜材料261.3.1金属薄膜材料261.3.2介质和半导体薄膜材料281.3.3金属膜与介质膜的比较33第2章光学薄膜制备技术342.1真空及真空设备342.1.1真空技术知识及主要术语定义342.1.2获得真空所需的设备402.1.3真空的测量472.2热蒸发镀膜工艺512.2.1热蒸发镀膜机理介绍512.2.2热蒸发镀膜工艺分类612.2.3离子束辅助沉积工艺介绍692.2.4影响热蒸发镀膜质量的工艺参数742.3溅射镀膜工艺852.3.1溅射镀膜机理介绍852.3.2溅射镀膜工艺分类862.3.3影响溅射镀膜质量的工艺参数114第3章光学薄膜检测技术1183.1光学薄膜反射率和透过率测量1183.1.1光谱分析测试系统原理1183.1.2薄膜透过率测量1203.1.3薄膜反射率测量1213.1.4影响测量准确度的因素1223.2光学薄膜厚度的测量1233.2.1干涉法测量薄膜厚度1233.2.2轮廓法测量薄膜厚度1243.2.3其他测量方法1253.3光学薄膜激光损伤阈值测量1253.3.1光学薄膜损伤测量标准及判定1253.3.2几类激光损伤阈值测量方法介绍1253.3.3激光损伤测试装置1263.3.4 1 on 1损伤测试标准过程1273.4光学薄膜其他参数测量1283.4.1薄膜的吸收和散射测量1283.4.2薄膜材料折射率测量1313.4.3薄膜散射测量1333.4.4薄膜折射率测量135参考文献138