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  • 磁场下复合电沉积法制备铁-硅镀层 龙琼 著 大中专 文轩网
  • 新华书店正版
    • 作者: 龙琼著
    • 出版社: 中国矿业大学出版社
    • 出版时间:2021-01-01 00:00:00
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    商品参数
    • 作者: 龙琼著
    • 出版社:中国矿业大学出版社
    • 出版时间:2021-01-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787564648060
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:中国矿业大学出版社

    磁场下复合电沉积法制备铁-硅镀层

    作  者:龙琼 著
    定  价:48
    出 版 社:中国矿业大学出版社
    出版日期:2020年11月01日
    页  数:136
    装  帧:平装
    ISBN:9787564648060
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    内容简介

    本书共分为6章,主要内容包含:绪论,Fe-Si复合镀层制备研究方案,无磁场下Fe-Si镀层的制备,水平磁场下制备Fe-Si复合镀层,竖直强磁场下制备Fe-Si复合镀层,以及磁场下电化学研究电沉积铁过程等。本书所述内容具有前瞻性和实用性。本书可供从事高硅钢薄带制备、电磁冶金、表面改性、新材料制备等研究方向的人员使用,亦可供相关企业技术人员参考使用。

    作者简介

    精彩内容

    目录
    第1章绪论
    1.1研究背景
    1.2硅钢的性能要求及特性
    1.3高硅钢的制备工艺
    1.4磁场下复合电沉积技术
    1.5研究内容
    第2章Fe-Si镀层制备方案
    2.1电钹液成分及工作条件
    2.2实验仪器设备与材料
    2.3实验方案
    2.4制备及分析测试方法
    第3章无磁场下制备Fe-Si镀层
    3.1下置式搅拌电镀制备Fe-Si镀层
    3.2循环镀液搅拌电镀制备Fe-Si镀层
    3.3本章小结
    第4章水平磁场下制备Fe-Si镀层
    4.1磁场方向、电极排布对镀层形貌及硅含量的影响
    4.2电流密度对镀层硅含量的影响
    4.3磁场与电流方向对镀层形貌及硅含量的影响
    4.4电沉积过程分析
    4.5本章小结
    第5章强磁场下制备Fe-Si镀层
    5.1垂直强磁场对镀层形貌及硅含量的影响
    5.2平行强磁场对镀层形貌及硅含量的影响
    5.3强磁场下电流密度对镀层硅含量的影响
    5.4磁场对阴极电流效率的影响
    5.5颗粒在磁场中受到的电磁力的计算
    5.6磁感应强度对镀层结构的影响
    5.7本章小结
    第6章磁场下电化学研究电沉积铁过程
    6.1复合电沉积过程理论基础
    6.2磁场下对纯铁电镀沉积过程的电化学分析研究
    6.3本章小结
    参考文献

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