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全新正版二氧化硅光学薄膜材料9787118115550国防工业出版社
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章二氧化硅材料基本特 1.1二氧化硅体材料基本特 1.1.1光学特 1.1.2热力学及特 1.1.3微结构和分子结构特 1.2二氧化硅薄膜材料基本特 1.2.1薄膜材料光学特 1.2.2薄膜材料力学与热力学特 1..薄膜微结构和分子结构特 1.2.4薄膜材料特 第2章二氧化硅薄膜材料制备技术 2.1二氧化硅薄膜材料沉积技术 2.1.1真空基础 2.1.2热蒸发沉积技术 2.1.3离子束溅沉积技术 2.1.4磁控溅沉积技术 2.1.5热氧化技术 2.2基片特及二氧化硅薄膜沉积参数 2.2.1基片特 2.2.2二氧化硅沉积参数 .二氧化硅薄膜后处理技术 ..1热退火后处理 ..2热等静压后处理 第3章二氧化硅薄膜材料光学特 3.1薄膜材料光学常数的测试与分析 3.1.1光学薄膜计算分析 3.1.2透反光谱法 3.1.3椭圆偏振光谱反演法 3.1.4本书光谱和椭圆偏振参数的获得 3.2弱吸收和极薄层的测试和分析 3.2.1弱吸收的测试和分析 3.2.2极薄层光学常数测试与分析 3.3二氧化硅薄膜折率特 3.3.1IBSSiO2薄膜的折率特 3.3.2IBSSiO2薄膜折率计算的对比 3.3.3IBSSiO2薄膜折率的离散 3.3.4不同制备技术的SiO2薄膜折率差异 3.3.5全光谱的SiO2薄膜折率比较 3.4二氧化硅薄膜吸收特 3.4.1薄膜材料吸收的分类研究方法 3.4.2薄膜材料可见光弱吸收特 3.4.3紫外区吸收和短波截止特 3.4.4OH根吸收和激光损伤特 第4章二氧化硅薄膜的后处理效应和时效 4.1热退火处理效应 4.1.1折率和厚度的演变规律 4.1.2可见弱吸收特的演变规律 4.1.3紫外区吸收和短波截止特 4.1.4OH根吸收和激光损伤特 4.2热等静压处理效应 ……
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