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热丝化学气相沉积技术 (日)松村英树 等 著 黄海宾 等 译 专业科技 文轩网
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https://product.suning.com/0070067633/11555288247.html
热丝化学气相沉积技术
1.原著作者为本领域权威Hironobu Umemoto教授。2.全面介绍催化(热丝)化学气相沉积内容基础理论、设备设计及在太阳电池、半导体领域的应用。
催化化学气相沉积(Cat-CVD)又名热丝化学气相沉积,可以在衬底温度低于300℃条件下获得器件级的高质量薄膜。本书系统介绍了Cat-CVD技术,包括其基本原理、设备设计及应用。具体包括Cat-CVD的物理基础及其与等离子增强化学气相沉积的区别、Cat-CVD 中化学反应的分析方法及基本原理、Cat-CVD 的物理化学基础、Cat-CVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积(iCVD)合成有机聚合物、Cat-CVD设备运行中的物理基础与技术、Cat-CVD 在太阳电池和各种半导体器件中的应用、Cat-CVD系统中的活性基团及其应用,最后介绍了利用Cat-CVD 腔室中产生的活性基团,在低温下进行半导体掺杂。 本书可供薄膜制备相关研发和技术人员参考使用,主要涉及半导体及薄膜太阳电池等领域。
松村英树(Hideki Matsumura),博士,日本北陆先端科学技术大学院大学(JAIST)材料科学学院荣誉教授。梅本弘宣(Hironobu Umemoto),博士,日本静冈大学工程学院化学与生物工程专业教授。卡伦·格利森(Karen K.Gleason),博士,美国麻省理工学院Alexander和I. Michael Kasser化学工程教授,副教务长。吕德·施罗普(Ruud E.I.Schropp),博士,荷兰埃因霍芬理工大学Solliance太阳能研究所高级研究员。黄海宾,江西汉可泛半导体技术有限公司董事长,国内知名异质结太阳电池专家,主要研究方向为太阳电池器件结构设计、模拟分析及产业化制备技术与装备,半导体薄膜制备技术与装备。沈鸿烈,南京航空航天大学教授,亚太材料科学院院士。主要从事光伏及半导体功能材料方面的研究。Hironobu Umemoto,博士,日本北陆先端科学技术大学null
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