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  • 材料表面与薄膜技术 陆伟,高玉魁,魏先顺 编 大中专 文轩网
  • 新华书店正版
    • 作者: 暂无著
    • 出版社: 化学工业出版社
    • 出版时间:2023-11-01 00:00:00
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         https://product.suning.com/0070067633/11555288247.html

     

    商品参数
    • 作者: 暂无著
    • 出版社:化学工业出版社
    • 出版时间:2023-11-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 印刷时间:2023-11-01
    • 字数:354000
    • 页数:244
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787122436474
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:化学工业出版社

    材料表面与薄膜技术

    作  者:陆伟,高玉魁,魏先顺 编
    定  价:69
    出 版 社:化学工业出版社
    出版日期:2023年11月01日
    页  数:244
    装  帧:平装
    ISBN:9787122436474
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    内容简介

    《材料表面与薄膜技术》作为教育部高等学校材料类专业教学指导委员会规划教材,是一本体现多学科交叉并具有较强实用价值的专业教材。全书从基本原理出发,密切结合实际,介绍了各类常见的表面与薄膜制备技术及其发展趋势,详细介绍了表面与薄膜相关的基本概念、内在原理,较系统地分析了各类现代表面技术的特点、适用范围、技术路线、工艺流程和应用实例以及发展前景。主要内容包括表面技术概论、表面科学的概念和理论、薄膜气相沉积技术、表面改性技术、表面涂覆技术以及表面分析与表征技术。
    本书可作为高等学校材料类、化工类相关专业本科生和研究生的教学用书,同时可供表面工程、涂装、机械、国防、航空航天、船舶等领域的工程技术人员参考。

    作者简介

    陆伟,教授,博士生导师,上海市优秀技术带头人、上海市青年科技启明星,材料科学与工程学院副院长。 1998年至2006年在同济大学进行本科、硕士和博士学习,并于2006年获得博士学位。2006年-2007年在美国西部数据公司(马来西亚分公司)担任高*级研发工程师,2007年至2010年在日本丰田工业大学和秋田大学从事磁性材料研究工作,2009年进入同济大学材料学院工作至今。 在国内外杂志发表论文140多篇,ESI高被引论文12篇,授权发明专利30多项。先后主持国家重点研发计划1项(首席科学家)、国家自然科学基金项目9项、其他国*家级项目3项、省部级项目4项以及其他课题近10项。获得2020年上海市科技进步一等奖(排名第*一)、2017年上海市科技进步二等奖(排名第*一)和2011年上海市技术发明三等奖(排名第*二)。培养毕业研究生20余名,在读研究生近20名,多人获得国家奖学金以及同济大学和null

    精彩内容

    目录
    第1章 表面技术概论
    1.1 表面技术的涵义
    1.1.1 一般的涵义
    1.1.2 广泛的涵义
    1.1.3 表面技术与工程实施的目的
    1.2 表面技术的分类
    1.2.1 表面覆盖技术
    1.2.2 表面改性技术
    1.2.3 复合表面处理技术
    1.2.4 表面加工技术
    1.2.5 表面分析和测试技术
    1.2.6 表面工程设计技术
    1.3 表面技术的应用
    1.4 表面技术的发展
    习题
    参考文献
    第2章 表面科学的概念和理论
    2.1 固体材料及其表面
    2.1.1 理想表面
    2.1.2 清洁表面
    2.1.3 吸附表面
    2.1.4 固体的表面自由能和表面张力
    2.1.5 表面偏析
    2.1.6 表面力场
    2.1.7 分子力场
    2.2 表面晶体学
    2.2.1 理想表面结构
    2.2.2 清洁表面结构
    2.2.3 实际表面结构
    2.2.4 半导体材料的表面吸附
    2.3 表面热力学
    2.3.1 固体的表面张力与表面能
    2.3.2 表面润湿与铺展
    2.4 表面动力学
    2.4.1 表面缺陷
    2.4.2 表面缺陷的形成和迁移
    2.4.3 表面扩散
    2.4.4 晶界扩散
    2.4.5 薄膜生长
    习题
    参考文献
    第3章 薄膜气相沉淀技术
    3.1 薄膜及其制备方法
    3.1.1 薄膜的定义
    3.1.2 薄膜的特征
    3.1.3 薄膜的形成过程
    3.1.4 薄膜的种类和应用
    3.2 真空技术基础
    3.2.1 真空度量单位
    3.2.2 真空区域的划分
    3.2.3 真空的获得
    3.2.4 真空的测量
    3.3 真空蒸镀
    3.3.1 真空蒸镀原理
    3.3.2 真空蒸镀技术
    3.3.3 真空蒸镀的应用
    3.4 溅射镀膜
    3.4.1 溅射镀膜的原理
    3.4.2 溅射类型
    3.4.3 溅射镀膜的应用
    3.5 离子镀
    3.5.1 离子镀的基本原理
    3.5.2 离子束溅射清洗与轰击加热
    3.5.3 离子轰击效应
    3.5.4 离子镀膜的优势
    3.5.5 衬底负电势的实现
    3.5.6 离子镀控制因素
    3.5.7 离子镀应用
    3.6 化学气相沉积
    3.6.1 CVD工艺过程
    3.6.2 CVD的热力学 动力学 质量传输基础
    3.6.3 CVD过程涉及的化学反应原理
    3.6.4 现有CVD技术
    3.6.5 CVD工艺控制因素
    3.6.6 CVD设备
    3.6.7 CVD技术的优势与不足
    3.7 分子束外延
    3.7.1 分子束外延的特点
    3.7.2 分子束外延的原理
    3.7.3 分子束外延设备
    3.7.4 影响分子束外延的因素
    3.7.5 分子束外延的应用
    3.8 离子束合成膜技术
    3.8.1 直接引出式离子束沉积
    3.8.2 质量分离式离子束沉积
    3.8.3 簇团离子束沉积
    3.8.4 离子束溅射沉积
    3.8.5 离子束辅助沉积
    习题
    参考文献
    第4章 表面改性技术
    4.1 金属表面形变强化
    4.1.1 滚压强化工艺
    4.1.2 喷丸强化工艺
    4.1.3 孔挤压强化工艺


    4.2 表面热处理

    ……

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