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  • 变革与趋向 20世纪70年代以来的设计展策展研究 纪玉洁 著 艺术 文轩网
  • 新华书店正版
    • 作者: 纪玉洁著
    • 出版社: 湖南美术出版社
    • 出版时间:2021-07-01 00:00:00
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         https://product.suning.com/0070067633/11555288247.html

     

    商品参数
    • 作者: 纪玉洁著
    • 出版社:湖南美术出版社
    • 出版时间:2021-07-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 印刷时间:2021-07-01
    • 页数:328
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787535692658
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:湖南美术出版社

    变革与趋向 20世纪70年代以来的设计展策展研究

    作  者:纪玉洁 著
    定  价:128
    出 版 社:湖南美术出版社
    出版日期:2021年07月01日
    页  数:328
    装  帧:平装
    ISBN:9787535692658
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    内容简介

    本书由中央美术学院美术馆设计部主任,总监纪玉洁博士专著,图书着眼于梳理当代设计展的历史发展脉络,以优选视野聚焦1970年代以来设计类展览的策展变革与趋向。该书文字12万,以图文并茂的形式从社会语境、文化视角、主题阐释、理论来源、批评话语、视觉传播、空间叙事、设计系统建构等方面,将大量不同类型的设计策展实践案例以非线性的逻辑方式来阐释和梳理,形成了“思想实验”、“重构设计的智识系统”、“拓展边界”、“技术的话语维度”、“思于未然”五个具有设计视图感的策展研究。

    作者简介

    精彩内容

    目录
    导论
    思想实验
    社会责任与道德意识
    批判与思辨的锋芒
    重构设计的智识系统
    重建秩序
    重塑概念
    拓展边界
    扩展的设计
    感官维度的延展
    设计收藏的拓展
    技术的话语维度
    技术升维
    技术的再自然
    超材料
    思于未然
    危机
    预测未来
    结语
    参考文献
    附录
    致谢

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