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  • 音像第三代半导体技术与应用(中国芯片制造系列)姚玉 洪华
  • 正版
    • 作者: 姚玉 洪华著 | 姚玉 洪华编 | 姚玉 洪华译 | 姚玉 洪华绘
    • 出版社: 暨南大学出版社
    • 出版时间:2021-12-01
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    • 作者: 姚玉 洪华著| 姚玉 洪华编| 姚玉 洪华译| 姚玉 洪华绘
    • 出版社:暨南大学出版社
    • 出版时间:2021-12-01
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 字数:320000
    • 页数:344
    • 开本:16开
    • ISBN:9787566832382
    • 版权提供:暨南大学出版社
    • 作者:姚玉 洪华
    • 著:姚玉 洪华
    • 装帧:平装-胶订
    • 印次:1
    • 定价:128.00
    • ISBN:9787566832382
    • 出版社:暨南大学出版社
    • 开本:16开
    • 印刷时间:暂无
    • 语种:暂无
    • 出版时间:2021-12-01
    • 页数:344
    • 外部编号:1202552672
    • 版次:1
    • 成品尺寸:暂无


    姚玉,博士于加拿大不列颠哥伦比亚大学,多年来专注于半导体封装制程材料、工艺及理论的研究,对于半导体封装中运用的多种关键的镀层材料以及制程的工艺整合及芯片制造、管理有着丰富的经验。参与主编《芯片封装制造》一书,是近年来本芯片领域系统讲述封装制造工艺的专业图书。

    洪华,东南大学科学与工程学院、示范微学院、MEMS*重点实验室理教授。曾入选2020年江苏省“双创计划”,2013、2015年两次入选美国能源部普林斯顿CEFRC学者,2015年被选为美国科学REU项目导师,2020年入选东南大学紫金学者。



    本书为“中国芯片制造系列”的第二本,是一本系统地阐述碳化硅半导体材料生长和加工工艺的专著,填补了国内该领域书籍对于近期碳化硅制造工艺新技术及进展介绍的空白。本书较为全面地阐述了不同晶型的碳化硅从长晶、衬底制造、外延制造全流程的生产技术,展现了国内外碳化硅制造领域近期的发展成果,论述了碳化硅材料的热力学质、长原理、晶体掺杂和缺陷控制等相关基础理论,以及生长数据建模、测试表征等各方面知识,介绍了碳化硅上的氮化镓生长、碳化硅材料加工与封装关键工艺和碳化硅器件在各个领域的应用、前景及发展趋势等知识,是读者全面了解第三代半导体器件与系统的重要参考。


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