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集成电路制造工艺 刘新,彭勇,蒲大雁 编 大中专 文轩网
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集成电路制造工艺
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本书主要内容包括集成电路制造过程中所需要掌握的基本理论知识,内容齐全,注重对操作技能的描述,包括工艺流程、操作过程、设备及操作方法等。 本书按照生产一个双极型晶体管的工艺流程,分别介绍了氧化工艺、光刻工艺、刻蚀工艺、掺杂工艺和金属化工艺等。同时,介绍了目前主流的超大规模集成电路(VeryLargeScaleIntegration,VLSI)制造工艺中的关键工艺,如CVD(化学气相淀积)工艺、离子注入工艺等。 本书主要面向高职高专微电子技术专业学生,同时也可以作为集成电路制造企业工艺工程师和技师的参考书,还可以作为集成电路制造企业教育培训和资格认证的教材。 本书配套授课电子课件,需要的教师可登录www.cmpedu.com免费注册、审核通过后下载,或联系编辑索取。
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