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醉染图书纳米加工技术与原理9787118122
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章 纳米加工研究方向简介
1.1 纳米加工
1.2 纳米光刻
1.3 纳米薄膜沉积
1.4 纳米尺度下的刻蚀及图形化工艺
1.5 小结
参考文献
第2章 束曝光与显影的基本原理
2.1 引言
2.1.1 传输
2.1.2 束抗蚀剂
2.1.3 抗蚀剂的显影
2.1.4 工艺参数
2.2 PMMA抗蚀剂艺窗
2.2.1 温度对艺窗的影响
2.2.2 曝光剂量和显影时间的相互影响
2.. 曝光电压的影响
. EBL工艺优化:典型示例
..1 低压曝光、低温显影PMMA工艺
..2 通过控制PMMA实现亚20nm宽桥结构
.. HS亚nm工艺
..4 HS抗蚀剂作为刻蚀掩模:8nm宽桥结构
2.4 绝缘衬底
2.5 小结
参考文献
第3章 束曝光与抗蚀剂工艺的模拟
3.1 引言
3.2 流程图
3.3 束曝光模块
3.3.1 建模方法
3.3.2 能量沉积函数
3.3.3 束形效应
3.3.4 模拟版图中的能量分布
3.3.5 邻近效应校正
3.4 抗蚀剂模拟模块
3.4.1 宏观尺度下的抗蚀剂建模
3.4.2 介观尺度下的抗蚀剂显影模型建模
3.5 束曝光模拟的商用化软件
3.5.1 束一物质相互作用
3.5.2 邻近效应校正
3.5.3 现代化的软件工具
3.6 实例
3.6.1 束图形化模拟及其在多层膜衬底上复杂版图的测量
3.6.2 模拟束曝光中白噪声对32nm节点CD及LER的影响
3.7 小结
参考文献
第4章 氦离子光刻的原理及能
4.1 引言
4.2 氮离子束系统
4.3 氮离子与物质的相互作用
4.3.1 初始离子束发散
4.3.2 二次的产生
4.3.3 二次的能量分布
4.3.4 二次的曝光贡献
4.3.5 曝光损伤
4.4 氮离子束光刻
4.4.1 灵敏度和对比度
4.4.2 分辨率
4.4.3 邻近效应
4.4.4 AlO抗蚀剂
4.5 结论和展望
参考文献
……
第5章 纳米压印技术
第6章 原子层沉积纳米技术
第7章 纳米尺度下的表面功能化
第8章 基于嵌段共聚物自组装的纳米结构
第9章 电沉积法在半导体上外延生长金属
0章 用于纳米技术的化学机械抛光
1章 聚焦氦离子束沉积、铣削与刻蚀加工
2章 激光纳米图形化
3章 基于纳米多孔阳极AlO/TiO2的模板制作与图形转移技术
参考文献
段辉高,男,1982年8月出生于湖南衡阳,现任湖南大学物理与微科学学院教授,博士生导师,主要研究方向为新型纳米加工技术。
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