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  • 功率半导体器件--原理特性和可靠性(原书第2版)/新型电力电子器件丛书
  • 新华书店正版
    • 作者: (德)约瑟夫·卢茨//海因里希·施兰格诺托//乌维·朔伊尔曼//里克·德·当克尔著 | | 卞抗//杨莺//刘静//蒋荣舟译
    • 出版社: 机械工业出版社
    • 出版时间:2020-01-01 00:00:00
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    • 作者: (德)约瑟夫·卢茨//海因里希·施兰格诺托//乌维·朔伊尔曼//里克·德·当克尔著| 卞抗//杨莺//刘静//蒋荣舟译
    • 出版社:机械工业出版社
    • 出版时间:2020-01-01 00:00:00
    • 版次:1
    • 印次:1
    • 印刷时间:2021-01-08
    • 字数:695000
    • 页数:554
    • 开本:16开
    • 装帧:平装
    • ISBN:9787111640295
    • 国别/地区:中国
    • 版权提供:机械工业出版社

    功率半导体器件--原理特性和可靠性(原书第2版)/新型电力电子器件丛书

    作  者:(德)约瑟夫·卢茨//海因里希·施兰格诺托//乌维·朔伊尔曼//里克·德·当克尔 著 卞抗//杨莺//刘静//蒋荣舟 译
    定  价:150
    出 版 社:机械工业出版社
    出版日期:2020年01月01日
    页  数:554
    装  帧:平装
    ISBN:9787111640295
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    内容简介

    本书介绍了功率半导体器件的原理、结构、特性和可靠性技术,器件部分涵盖了当前电力电子技术中使用的各种类型功率半导体器件,包括二极管、晶闸管、MOSFET、IGBT和功率集成器件等。此外,还包含了制造工艺、测试技术和损坏机理分析。就其内容的全面性和结构的完整性来说,在同类专业书籍中是不多见的。 本书内容新颖,紧跟时代发展,除了介绍经典的功率二极管、晶闸管外,还重点介绍了MOSFET、IGBT等现代功率器件,颇为难得的是收入了近年来有关功率半导体器件的近期新成果,如SiC,GaN器件,以及场控宽禁带器件等。本书是一本精心编著、并根据作者多年教学经验和工程实践不断补充更新的好书,相信它的翻译出版必将有助于我国电力电子事业的发展。 本书的读者对象包括在校学生、功率器件设计制造和电力电子应用领域的工程技术人员及其他相关专业人员。本书适合高等院校有关专业用作教材或专业参考书,亦可被电力电子学界和广大的功null

    作者简介

    精彩内容

    目录
    译者的话 原书第2版序言 原书第1版序言 常用符号 第1章 功率半导体器件——高效电能变换装置中的关键器件 1.1 装置、电力变流器和功率半导体器件 1.1.1 电力变流器的基本原理 1.1.2 电力变流器的类型和功率器件的选择 1.2 使用和选择功率半导体 1.3 功率半导体的应用 1.4 用于碳减排的电力电子设备 参考文献 第2章 半导体的性质 2.1 引言 2.2 晶体结构 2.3 禁带和本征浓度 2.4 能带结构和载流子的粒子性质 2.5 掺杂的半导体 2.6 电流的输运 2.6.1 载流子的迁移率和场电流 2.6.2 强电场下的漂移速度 2.6.3 载流子的扩散,电流输运方程式和爱因斯坦关系式 2.7 复合-产生和非平衡载流子的寿命 2.7.1 本征复合机理 2.7.2 包含金、铂和辐射缺陷的复合中心上的复合 2.8 碰撞电离 2.9 半导体器件的基本公式 2.10 简单的结论 2.10.1 少数载流子浓度的时间和空间衰减 2.10.2 电荷密度的时间和空间衰减 参考文献 第3章 pn结 3.1 热平衡状态下的pn结 3.1.1 突变结 3.1.2 缓变结 3.2 pn结的I-V特性 3.3 pn结的阻断特性和击穿 3.3.1 阻断电流 3.3.2 雪崩倍增和击穿电压 3.3.3 宽禁带半导体的阻断能力 3.4 发射区的注入效率 3.5 pn结的电容 参考文献 第4章 功率器件工艺的介绍 4.1 晶体生长 4.2 通过中子嬗变来调节晶片的掺杂 4.3 外延生长 4.4 扩散 4.4.1 扩散理论,杂质分布 4.4.2 掺杂物的扩散系数和溶解度 4.4.3 高浓度效应,扩散机制 4.5 离子注入 4.6 氧化和掩蔽 4.7 边缘终端 4.7.1 斜面终端结构 4.7.2 平面结终端结构 4.7.3 双向阻断器件的结终端 4.8 钝化 4.9 复合中心 4.9.1 用金和铂作为复合中心 4.9.2 辐射引入的复合中心 4.9.3 Pt和Pd的辐射增强扩散 4.10 辐射引入杂质 4.11 GaN器件工艺的若干问题 参考文献 第5章 pin二极管 5.1 pin二极管的结构 5.2 pin二极管的I-V特性 5.3 pin二极管的设计和阻断电压 5.4 正向导通特性 5.4.1 载流子的分布 5.4.2 结电压 5.4.3 中间区域两端之间的电压降 5.4.4 在霍尔近似中的电压降 5.4.5 发射极复合、有效载流子寿命和正向特性 5.4.6 正向特性和温度的关系 5.5 储存电荷和正向电压之间的关系 5.6 功率二极管的开通特性 5.7 功率二极管的反向恢复 5.7.1 定义 5.7.2 与反向恢复有关的功率损耗 5.7.3 反向恢复:二极管中电荷的动态 5.7.4 具有很好反向恢复特性的快速二极管 5.7.5 MOS控制二极管 5.8 展望 参考文献 第6章 肖特基二极管 6.1 金属-半导体结的能带图 6.2 肖特基结的I-V特性 6.3 肖特基二极管的结构 6.4 单极型器件的欧姆电压降 6.4.1 额定电压为200V和100V的硅肖特基二极管与pin二极管的比较 6.5 SiC肖特基二极管 6.5.1 SiC单极二极管特性 6.5.2 组合pin肖特基二极管 6.5.3 SiC肖特基和MPS二极管的开关特性和耐用性 参考文献 第7章 双极型晶体管 7.1 双极型晶体管的工作原理 7.2 功率双极型晶体管的结构 7.3 功率晶体管的I-V特性 7.4 双极型晶体管的阻断特性 7.5 双极型晶体管的电流增益 7.6 基区展宽、电场再分布和二次击穿 7.7 硅双极型晶体管的局限性 7.8 SiC双极型晶体管 参考文献 第8章 晶闸管 8.1 结构与功能模型 8.2 晶闸管的I-V特性 8.3 晶闸管的阻断特性 8.4 发射极短路点的作用 8.5 晶闸管的触发方式 8.6 触发前沿扩展 8.7 随动触发与放大门极 8.8 晶闸管关断和恢复时间 8.9 双向晶闸管 8.10 门极关断晶闸管 8.11 门极换流晶闸管 参考文献 第9章 MOS晶体管及场控宽禁带器件 9.1 MOSFET的基本工作原理 9.2 功率MOSFET的结构 9.3 MOS晶体管的I-V特性 9.4 MOSFET沟道的特性 9.5 欧姆区域 9.6 现代MOSFET的补偿结构 9.7 MOSFET特性的温度依赖性 9.8 MOSFET的开关特性 9.9 MOSFET的开关损耗 9.10 MOSFET的安全工作区 9.11 MOSFET的反并联二极管 9.12 SiC场效应器件 9.12.1 SiC JFET 9.12.2 SiC MOSFET 9.12.3 SiC MOSFET体二极管 9.13 GaN横向功率晶体管 9.14 GaN纵向功率晶体管 9.15 展望 参考文献 第10章 IGBT 10.1 功能模式 10.2 IGBT的I-V特性 10.3 IGBT的开关特性 10.4 基本类型:PT-IGBT和NPT-IGBT 10.5 IGBT中的等离子体分布 10.6 提高载流子浓度的现代IGBT 10.6.1 高n发射极注入比的等离子增强 10.6.2 无闩锁元胞几何图形 10.6.3 “空穴势垒”效

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